[发明专利]模拟AP1000水化学条件制备的氧化物的去污效果的评价方法

权利要求书

1.一种模拟AP1000水化学条件制备的氧化物的去污效果的评价方法，其特征在于，所述评价方法包括如下步骤：

步骤(1)，模拟AP1000水化学条件在样片表面制备沉积氧化物，使用化学去污剂对样片进行去污清洗；

步骤(2)，对去污清洗前后的样片进行表面形貌的宏观评价和微观评价；

步骤(3)，对去污清洗前后的样片进行表面元素种类和含量半定量评价、表面离子价态评价；

步骤(4)，对去污清洗后的样片进行腐蚀深度分析；

步骤(5)，对样片表面的沉积氧化物进行去污溶解率分析。

2.如权利要求1所述的模拟AP1000水化学条件制备的氧化物的去污效果的评价方法，其特征在于，所述样片表面形貌的宏观评价采用光学显微镜进行，分析点蚀，以及表面变化情况。

3.如权利要求1所述的模拟AP1000水化学条件制备的氧化物的去污效果的评价方法，其特征在于，所述样片表面形貌的宏观评价采用肉眼观看，并对其拍照分析。

4.如权利要求1所述的模拟AP1000水化学条件制备的氧化物的去污效果的评价方法，其特征在于，所述样片表面形貌的微观评价采用扫描电子显微镜进行，分析某一特定区域内的表面形貌、腐蚀坑、腐蚀产物的微观构成和表面形貌。

5.如权利要求1所述的模拟AP1000水化学条件制备的氧化物的去污效果的评价方法，其特征在于，样片表面元素种类和含量半定量评价采用能谱分析仪进行。

6.如权利要求1所述的模拟AP1000水化学条件制备的氧化物的去污效果的评价方法，其特征在于，样片表面离子价态评价采用X射线光电子能谱分析仪进行。

7.如权利要求1所述的模拟AP1000水化学条件制备的氧化物的去污效果的评价方法，其特征在于，对去污清洗后的样片进行腐蚀深度分析的方法为：

将试样样片打磨至光亮，计算暴露表面积S，cm²，称取初始质量W₀，g；将其放入超声去污槽中进行去污清洗，去污清洗完成后取出样片，进行烘干，烘干后称取去污清洗后质量W₁，g，样片腐蚀深度D的计算公式如下：

D＝(W₀–W₁)/(ρ*S)

式中，ρ为样片密度(g/cm³)。

8.如权利要求7所述的模拟AP1000水化学条件制备的氧化物的去污效果的评价方法，其特征在于，样片去污前后的质量用分析天平进行称量；样片表面积用游标卡尺测量尺寸并计算。

9.如权利要求1所述的模拟AP1000水化学条件制备的氧化物的去污效果的评价方法，其特征在于，对样片表面的沉积氧化物进行去污溶解率分析的方法为：测量去污溶液中Cr离子浓度，进行分析。

10.如权利要求9所述的模拟AP1000水化学条件制备的氧化物的去污效果的评价方法，其特征在于，Cr离子浓度采用二苯碳酰二肼分光光度法进行测量。