[发明专利]模拟AP1000水化学条件制备的氧化物的去污效果的评价方法

说明书

本发明涉及一种模拟AP1000水化学条件制备的氧化物的去污效果的评价方法，所述评价方法包括如下步骤：模拟AP1000水化学条件在样片表面制备沉积氧化物，使用化学去污剂对样片进行去污清洗；对去污清洗前后的样片进行表面形貌的宏观评价和微观评价；对去污清洗前后的样片进行表面元素种类和含量半定量评价、表面离子价态评价；对去污清洗后的样片进行腐蚀深度分析；对样片表面的沉积氧化物进行去污溶解率分析。利用本发明的方法能够定量的了解实际的化学去污技术对AP1000产生的腐蚀氧化物的去污效果，对化学去污技术进行客观评价。

技术领域

本发明属于放射性污染防治技术领域，具体涉及一种模拟AP1000水化学条件制备的氧化物的去污效果的评价方法。

背景技术

我国为自主掌握第三代核电技术，引进了由美国西屋公司研发的AP1000 压水堆机组。AP1000压水堆一回路水化学条件与国内现有的压水堆不同，其一回路采用注锌加氢技术，目的是控制和减少应力腐蚀开裂、晶间腐蚀以及腐蚀产物等问题，但这也使其一回路主工艺设备材料表面氧化膜结构很薄且致密。

针对AP1000一回路主工艺设备材料表面氧化膜的特殊性，需要提供一种用于去除AP1000一回路主工艺设备材料表面氧化膜的化学去污效果的评价方法。

发明内容

针对现有技术中存在的缺陷，本发明提供了一种模拟AP1000水化学条件制备的氧化物的去污效果的评价方法，以定量的了解实际的化学去污技术对 AP1000产生的腐蚀氧化物的去污效果，对化学去污技术进行客观评价。

为达到以上目的，本发明采用的技术方案是：提供一种模拟AP1000水化学条件制备的氧化物的去污效果的评价方法，所述评价方法包括如下步骤：

步骤(1)，模拟AP1000水化学条件在样片表面制备沉积氧化物，使用化学去污剂对样片进行去污清洗；

步骤(2)，对去污清洗前后的样片进行表面形貌的宏观评价和微观评价；

步骤(3)，对去污清洗前后的样片进行表面元素种类和含量半定量评价、表面离子价态评价；

步骤(4)，对去污清洗后的样片进行腐蚀深度分析；

步骤(5)，对样片表面的沉积氧化物进行去污溶解率分析。

进一步地，所述样片表面形貌的宏观评价采用光学显微镜进行，分析点蚀，以及表面变化情况。

进一步地，所述样片表面形貌的宏观评价采用肉眼观看，并对其拍照分析。

进一步地，所述样片表面形貌的微观评价采用扫描电子显微镜进行，分析某一特定区域内的表面形貌、腐蚀坑、腐蚀产物的微观构成和表面形貌。

进一步地，样片表面元素种类和含量半定量评价采用能谱分析仪进行。

进一步地，样片表面离子价态评价采用X射线光电子能谱分析仪进行。

进一步地，对去污清洗后的样片进行腐蚀深度分析的方法为：

将试样样片打磨至光亮，计算暴露表面积S，cm²，称取初始质量W₀，g；将其放入超声去污槽中进行去污清洗，去污清洗完成后取出样片，进行烘干，烘干后称取去污清洗后质量W₁，g，样片腐蚀深度D的计算公式如下：

D＝(W₀–W₁)/(ρ*S)

式中，ρ为样片密度(g/cm³)。

进一步地，样片去污前后的质量用分析天平进行称量；样片表面积用游标卡尺测量尺寸并计算。