[发明专利]窑炉内电极砖侵蚀量计算方法和计算装置

说明书

本发明提供一种窑炉内电极砖侵蚀量计算方法和计算装置，属于玻璃基板生产技术领域。所述窑炉内有至少一组相对设置的电极砖，所述方法包括：获取电极砖间的初始加载电流以及电极砖两侧的初始对地电压；获取窑炉运行预设时长后电极砖间的运行电流以及电极砖两侧的实际对地电压；基于所述初始加载电流、所述初始对地电压、所述运行电流和所述实际对地电压，计算出电极砖总侵蚀量；基于所述初始对地电压、所述实际对地电压和所述电极砖总侵蚀量，计算出电极砖的单侧的侵蚀量。本发明能够精确计算出两个相对设置的电极砖各自的侵蚀量，为单侧电极砖的推进提供依据。

技术领域

本发明涉及玻璃基板生产技术领域，具体地涉及一种窑炉内电极砖侵蚀量计算方法和一种窑炉内电极砖侵蚀量计算装置。

背景技术

OLED及LTPS高温平板显示玻璃基板窑炉采用电加热为主，燃气加热为辅的熔制方式，窑炉的池壁两侧成对布置板状电极砖，通过对成对电极砖进行通电，使成对电极砖之间的熔融玻璃产生焦耳热，从而对配合料进行熔制。随着玻璃窑炉运行时间的推移，与玻璃液接触的板状电极砖不断被侵蚀，电极砖间距不断增大，电助熔能耗随之不断增加，各区域功率变化量的不同，导致窑炉工艺产生偏移，不利于窑炉的稳定生产，因此，需要及时进行板状电极砖的推进。

在沿窑炉液流的流向方向上，由于各区温度不同及距离玻璃液流出口位置的不同，窑内不同位置的电极砖侵蚀量也不同；各电极砖由于外部环境及所处的位置不同，即使是一组相对设置的电极砖，其各单侧电极砖亦存在一定程度的侵蚀差异性，如果只是简单的计算电极砖整体的推进量，再将推进量进行平均得到单侧电极砖大概的推进量，同样可能导致窑炉工艺产生偏移，不利于窑炉的稳定生产，因此，尚需一种对电极砖单侧的侵蚀量分别进行计算的方法，通过电极砖单侧的侵蚀量为单侧电极砖制定不同推进量，使推进量更加精确。

发明内容

本发明实施方式的目的是提供一种窑炉内电极砖侵蚀量计算方法和装置，以至少解决上述的无法精确获取单侧电极砖侵蚀量，无法为单侧电极砖制定不同推进量，不利于窑炉的稳定生产的问题。

为了实现上述目的，本发明第一方面提供一种窑炉内电极砖侵蚀量计算方法，所述窑炉内有至少一组相对设置的第一电极砖和第二电极砖，所述方法包括：

获取所述第一电极砖与所述第二电极砖间的初始加载电流、所述第一电极砖的初始对地电压以及所述第二电极砖的初始对地电压；

获取窑炉运行预设时长后所述第一电极砖与所述第二电极砖间的运行电流、所述第一电极砖的实际对地电压以及所述第二电极砖的实际对地电压；

基于所述初始加载电流、所述第一电极砖的初始对地电压、所述第二电极砖的初始对地电压、所述运行电流、所述第一电极砖的实际对地电压和所述第二电极砖的实际对地电压，计算得到电极砖总侵蚀量；

基于所述第一电极砖的初始对地电压、所述第二电极砖的初始对地电压、所述第一电极砖的实际对地电压、所述第二电极砖的实际对地电压和所述电极砖总侵蚀量，计算得到第一电极砖的侵蚀量和第二电极砖的侵蚀量。

可选的，所述基于所述初始加载电流、所述第一电极砖的初始对地电压、所述第二电极砖的初始对地电压、所述运行电流、所述第一电极砖的实际对地电压和所述第二电极砖的实际对地电压，计算得到电极砖总侵蚀量，包括：

获取窑炉的基本结构参数，包括：窑炉深度、窑炉宽度、窑炉长度和窑炉长度方向上电极砖累计对数；

基于所述基本结构参数得到所述第一电极砖和所述第二电极砖之间玻璃导体的初始长度、所述第一电极砖和所述第二电极砖的高度和宽度；

基于所述第一电极砖和所述第二电极砖的高度和宽度，计算得到第一电极砖和第二电极砖之间玻璃导体的截面积；