[发明专利]热处理装置在审

专利信息
申请号: 202011456717.9 申请日: 2020-12-11
公开(公告)号: CN113013054A 公开(公告)日: 2021-06-22
发明(设计)人: 森拓也;黑岩庆造 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;张会华
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 热处理 装置
【权利要求书】:

1.一种热处理装置,其对基板进行热处理,其中,

该热处理装置具有:

热处理板,在其上表面载置基板,对被载置的该基板进行加热或冷却;以及

变形自如的导热构件,至少其外周面的热导率比所述热处理板的上表面附近的气氛的热导率高,且该导热构件设为覆盖该热处理板的上表面并介于该上表面和晶圆(W)之间,

所述导热构件在向所述热处理板的上表面推压基板的力的作用下变形为与该基板的形状对应的形状。

2.根据权利要求1所述的热处理装置,其中,

所述导热构件具有维持变形后的形状的形状记忆功能。

3.根据权利要求1或2所述的热处理装置,其中,

所述导热构件具有:

介质,其在所述热处理板的使用温度带中为液体,该介质的热导率比所述气氛的热导率高;以及

变形自如且中空的容器,其由热导率比所述气氛的热导率高的材料形成,

所述容器的内部由所述介质填充。

4.根据权利要求1或2所述的热处理装置,其中,

所述导热构件具有:

介质,其在所述热处理板的使用温度带中为气体,该介质的热导率比所述气氛的热导率高;以及

变形自如且中空的容器,其由热导率比所述气氛的热导率高的材料形成,

所述容器的内部由所述介质填充。

5.根据权利要求3所述的热处理装置,其中,

该热处理装置具有:

中空的辅助容器,其由具有比所述导热构件的容器的柔软性高的柔软性的材料形成;以及

连通管,其使所述导热构件的容器和所述辅助容器连通,

所述辅助容器和所述连通管的内部由所述介质填充。

6.根据权利要求1或2所述的热处理装置,其中,

所述导热构件具有:

介质,其在所述热处理板的使用温度带中为粒状的固体,该介质的热导率比所述气氛的热导率高;以及

变形自如且中空的容器,其由热导率比所述气氛的热导率高的材料形成,

所述容器的内部由所述介质填充。

7.根据权利要求3所述的热处理装置,其中,

所述容器由铝形成。

8.根据权利要求1或2所述的热处理装置,其中,

所述导热构件具有多个从所述上表面向上方突出的突起。

9.根据权利要求1或2所述的热处理装置,其中,

所述导热构件装卸自如地设于所述热处理板的上表面。

10.根据权利要求1或2所述的热处理装置,其中,

所述导热构件具有供用于支承基板的基板支承构件插通的贯通孔。

11.根据权利要求1或2所述的热处理装置,其中,

所述热处理板被划分为多个区域,能够在每个该区域进行温度设定,

所述导热构件以与所述热处理板的所述多个区域对应的方式被分割。

12.根据权利要求1或2所述的热处理装置,其中,

所述热处理板具有对该基板进行抽吸的抽吸口,以增大向该热处理板的上表面推压基板的力。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东京毅力科创株式会社,未经东京毅力科创株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011456717.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top