[发明专利]一种离线单银可钢化低辐射镀膜玻璃及其制备工艺

说明书

本发明公开了一种离线单银可钢化低辐射镀膜玻璃，包括第一玻璃基片和第二玻璃基片，在所述第一玻璃基片上从下至上依次溅射有第一氮化硅SiNx层、复合电介质层、金属银层、减反层、第二氮化硅SiNx层和保护层，在所述保护层热压第二玻璃基片；所述复合电介质层采用下列材料ZnSnOx、Si3N4或TiOx中一种或多种；所述减反层采用下列材料SiO2、ZnOx、ZnAlOx、AZO中一种或多种；所述保护层采用下列材料NiCr或NiCrOx中一种或两种。本发明具有高透射率和低遮阳系数双重优点的低辐射镀膜玻璃，其透射率为83.5‑85.1％。

技术领域

本发明涉及低辐射镀膜玻璃技术领域，尤其涉及一种离线单银可钢化低辐射镀膜玻璃及其制备工艺。

背景技术

低辐射镀膜玻璃是指在浮法玻璃表面沉积一层金属银作为功能层，对太阳光中的近红外线和生活环境中的远红外线起反射作用，从而降低玻璃对红外线的吸收和辐射率，所以称之为低辐射镀膜玻璃。

氮化硅材料结构与玻璃材料结构相近，其薄膜更易于和玻璃结合，其薄膜光学折射率高，玻璃面反射颜色选择性好、靶材成本低廉。用氮化硅作为附着层材料是行业发展趋势。普遍高可见光透射的产品其遮阳系数较高，尚没有同时满足高透射率和低遮阳系数的低辐射镀膜玻璃，而本申请的低辐射镀膜玻璃可解决上述问题。

发明内容

本发明旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本发明的一个目的在于提出一种离线单银可钢化低辐射镀膜玻璃及其制备工艺，解决了无法同时满足高透射率和低遮阳系数的低辐射镀膜玻璃问题。

根据本发明提出的一种离线单银可钢化低辐射镀膜玻璃，包括第一玻璃基片和第二玻璃基片，在所述第一玻璃基片上从下至上依次溅射有第一氮化硅SiNx层、复合电介质层、金属银层、减反层、第二氮化硅SiNx层和保护层，在所述保护层热压第二玻璃基片；

所述复合电介质层采用下列材料ZnSnOx、Si3N4或TiOx中一种或多种，若为两种以上时，镀成多层复合层；

所述减反层采用下列材料SiO2、ZnOx、ZnAlOx、AZO中一种或多种，若为两种以上时，镀成多层复合层；

所述保护层采用下列材料NiCr或NiCrOx中一种或两种，若为两种时，镀成双层复合层。

在本发明的一些实施例中，所述第一氮化硅SiNx层溅射厚度为5-25nm，所述复合电介质层溅射厚度为30-100nm，所述金属银层溅射厚度为10-50nm，所述减反层溅射厚度为20-60nm，所述第二氮化硅SiNx层溅射厚度为5-15nm，所述保护层溅射厚度为25-50nm。

在本发明的另一些实施例中，所述复合电介质层为单层时，溅射厚度为30-50nm，所述复合电介质层为多层时，每层溅射厚度在20-35nm。

在本发明的另一些实施例中，所述减反层为单层时，溅射厚度为20-45nm，所述减反层为多层时，每层溅射厚度在10-25nm。

在本发明的另一些实施例中，所述保护层为单层时，溅射厚度为25-35nm，所述保护层为多层时，每层溅射厚度在15-20nm。

一种离线单银可钢化低辐射镀膜玻璃的制备工艺，具体工艺步骤如下：

S1：采用真空磁控溅射镀膜技术，在第一玻璃基片的表面逐层镀膜：依次溅射镀膜第一氮化硅SiNx层、复合电介质层、金属银层、减反层、第二氮化硅SiNx层和保护层；

S2：将溅射镀膜完成的玻璃放入热合机中，将第二玻璃基片盖在保护层上进行热压合，然后用封边胶封边；

其中，所述复合电介质层、减反层和保护层单层时均约为双层厚度的80％、为三层时的厚度60％；