[发明专利]一种改进型光学薄膜应力及其制备方式在审
| 申请号： | 202011462311.1 | 申请日： | 2020-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN112410746A | 公开（公告）日： | 2021-02-26 |
| 发明（设计）人： | 钱佳琪;陈小刚 | 申请（专利权）人： | 苏州苏克新型材料有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/54 | 分类号： | C23C14/54;C23C14/24 |
| 代理公司： | 苏州铭浩知识产权代理事务所(普通合伙) 32246 | 代理人： | 潘志渊 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 改进型 光学薄膜 应力 及其 制备 方式 | ||
【权利要求书】：
1.一种改进型光学薄膜应力及其制备方式，其特征在于：所述该改进型光学薄膜应力及其制备方式是将薄膜基片放入真空镀膜机室内在290℃温度下烘烤100min，且薄膜基片上的膜厚度在蒸镀制至5000纳米厚时暂停蒸镀20分钟，然后再蒸镀至5000纳米厚度时暂停蒸镀20分钟，直至膜蒸镀结束。
2.根据权利要求1所述的，其特征在于：所述薄膜基片采用SiO2或ZrO两种特定膜料的其中一种，在真空镀膜机中通过290℃高温烘烤使基片内部应力进行释放，消除基片对薄膜产生的应力。
3.根据权利要求1所述的，其特征在于：所述薄膜基片上的膜厚度至少为10000纳米以上，且每蒸镀至5000纳米厚度时，暂停蒸镀20分钟沉积薄膜，使薄膜越来越致密，消除薄膜应力。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州苏克新型材料有限公司，未经苏州苏克新型材料有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011462311.1/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种建筑玻璃幕墙及其施工方法
- 下一篇：一种气井开井缓冰堵装置
- 同类专利
- 专利分类
