[发明专利]一种电致变色复合膜系中氧化钨层的制备方法有效
| 申请号： | 202011462996.X | 申请日： | 2020-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN112626459B | 公开（公告）日： | 2023-02-17 |
| 发明（设计）人： | 沈洪雪;汤永康;王天齐;金克武 | 申请（专利权）人： | 中建材玻璃新材料研究院集团有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/08 | 分类号： | C23C14/08;C23C14/35 |
| 代理公司： | 安徽省蚌埠博源专利商标事务所(普通合伙) 34113 | 代理人： | 陈俊 |
| 地址： | 233010 安徽*** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 变色 复合 膜系中 氧化钨 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种电致变色复合膜系中氧化钨层的制备方法，其特征在于，包括以下步骤： S1、选用电阻率为20欧姆的ITO镀膜玻璃作为为衬底； S2、将衬底装入样品架，送入磁控溅射镀膜腔室中； S3、对磁控溅射镀膜腔室抽真空，使真空度达到8.0*10-6Pa； S4、当真空度达到10-6Pa时，对衬底进行加热至300℃，并通入氩气，同时开启直流电源，使靶材进行预溅射； S5、预溅射完毕后，通入氧气，溅射氧化钨薄膜； S6、溅射完毕后，待磁控溅射镀膜腔室降温至室温后，取出氧化钨薄膜；
步骤S5溅射时通入的氧气通入量由10sccm～20sccm渐变，磁控溅射时的功率为1250w，氩气通入量保持为450sccm；
制备得到的氧化钨薄膜厚度为100～200nm。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中建材玻璃新材料研究院集团有限公司，未经中建材玻璃新材料研究院集团有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011462996.X/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
