[发明专利]一种电致变色复合膜系中氧化钨层的制备方法

说明书

本发明公开一种电致变色复合膜系中氧化钨层的制备方法，包括以下步骤：S1、选用电阻率为20欧姆的ITO镀膜玻璃作为为衬底；S2、将衬底装入样品架，送入磁控溅射镀膜腔室中；S3、对磁控溅射镀膜腔室抽真空，使真空度达到8.0*10^‑6Pa；S4、当真空度达到10^‑6Pa时，对衬底进行加热至300℃，并通入氩气，同时开启直流电源，使靶材进行预溅射；S5、预溅射完毕后，通入氧气，溅射氧化钨薄膜；S6、溅射完毕后，待磁控溅射镀膜腔室降温至室温后，取出氧化钨薄膜；该方法制备得到的氧化钨薄膜具有膜层厚度均匀、性能优良稳定的特点，且工艺简单、可控性强。

技术领域

本发明涉及功能薄膜制备技术领域，具体是一种电致变色复合膜系中氧化钨层的制备方法。

背景技术

电致变色材料分为无机电致变色材料和有机电致变色材料。因其在低压驱动下光学性能可实现可逆转变而备受关注，最直接的表面特征就是电压不同，材料的颜色随之发生变化，其中无机电致变色材料的典型代表是几种电致变色膜系的复合，使得材料达到最佳的变色效果，而复合膜系中的核心膜层是氧化钨，氧化钨薄膜性能的好坏直接决定着电致变色薄膜的总体性能。

发明内容

本发明的目的在于提供一种电致变色复合膜系中氧化钨层的制备方法，该方法制备得到的氧化钨薄膜具有膜层厚度均匀、性能优良稳定的特点，且工艺简单、可控性强。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：

一种电致变色复合膜系中氧化钨层的制备方法，包括以下步骤：

S1、选用电阻率为20欧姆的ITO镀膜玻璃作为为衬底；

S2、将衬底装入样品架，送入磁控溅射镀膜腔室中；

S3、对磁控溅射镀膜腔室抽真空，使真空度达到8.0*10^-6Pa；

S4、当真空度达到10^-6Pa时，对衬底进行加热至300℃，并通入氩气，同时开启直流电源，使靶材进行预溅射；

S5、预溅射完毕后，通入氧气，溅射氧化钨薄膜；

S6、溅射完毕后，待磁控溅射镀膜腔室降温至室温后，取出氧化钨薄膜。

进一步的，步骤S5溅射时通入的氧气由10sccm～20sccm渐变。

进一步的，磁控溅射时的功率为1250w，氩气通入量保持为450sccm。

进一步的，制备得到的氧化钨薄膜厚度为100～200nm。

本发明的有益效果是：

一、磁控溅射只进行氧化钨薄膜的镀制，工艺简单，可控性强；

二、溅射之前，先对衬底进行加热至300℃，可以减少薄膜的内应力，有利于膜层之间更稳定的结合；

三、溅射完毕后，由于温度较高，待薄膜跟随磁控溅射镀膜腔室降温至室温后再取出，能够防止薄膜的氧化；

四、溅射时氧气由10sccm～20sccm渐变，可以得到符合电致变色使用、具有氧缺陷的斜方相氧化钨薄膜。

具体实施方式

本发明提供一种电致变色复合膜系中氧化钨层的制备方法，包括以下步骤：

S1、选用电阻率为20欧姆的ITO镀膜玻璃作为为衬底；

S2、将衬底装入样品架，送入磁控溅射镀膜腔室中；

S3、对磁控溅射镀膜腔室抽真空，使真空度达到8.0*10^-6Pa；