[发明专利]一种形成优质底层的独特的氧化镁配料工艺

权利要求书

1.一种形成优质底层的独特的氧化镁配料工艺，其特征在于：包括如下步骤：

S1、脱脂

将冷轧后的硅钢卷转至脱脂机组进行脱脂处理，经脱脂设备进行刷洗脱脂；

S2、水洗

使用温水对脱脂后的硅钢带进行水洗，将钢带表面上的脱脂剂清除；

S3、干燥

水洗后的钢带放入烘干炉烘干，烘干温度为50～70℃；

S4、氧化镁涂层

利用氧化镁对钢带在烘干后进入涂层机进行氧化镁涂层，将氧化镁均匀涂在钢带的表面，单面涂料量为5～8g/m；

S5、烘干涂层

涂层后的钢带通过天然气烘干炉烘干，炉内温度为360℃；

S6、收取钢带

将涂层液烘干后的钢带经收卷机卷齐收集。

2.根据权利要求1所述的一种形成优质底层的独特的氧化镁配料工艺，其特征在于：所述乳化液脱脂剂的浓度为3％～7％，脱脂剂温度为40～70℃，脱脂时机组速度为20～60m/min，所述脱脂剂为专用的乳化液脱脂剂。

3.根据权利要求1所述的一种形成优质底层的独特的氧化镁配料工艺，其特征在于：所述步骤S4中的氧化镁配料成分为质量浓度大于0.2Kg/L的轻质氧化镁、平均粒径为50nm且氧化镁重量含量大于99.9％的纳米氧化镁、硼酸、二氧化锑、二氧化钛和去离子水。

4.根据权利要求3所述的一种形成优质底层的独特的氧化镁配料工艺，其特征在于：所述二氧化钛为锐钛型二氧化钛，二氧化钛的重量含量大于98％、水溶物小于0.5％。

5.根据权利要求1所述的一种形成优质底层的独特的氧化镁配料工艺，其特征在于：所述去离子水电导率小于5μs/cm、氯离子质量浓度小于0.5μg/ml。

6.根据权利要求1所述的一种形成优质底层的独特的氧化镁配料工艺，其特征在于：所述活性氧化镁具有片状和条状氧化镁颗粒，非活性氧化镁具有圆形和粒状氧化镁颗粒。