[发明专利]一种真空蒸镀用基片温度控制装置

说明书

本发明公开了一种真空蒸镀用基片温度控制装置，包括水冷基板以及开设在水冷基板上的进水口和出水口，还包括辅助降温装置，所述辅助降温装置置于水冷基板与电池基片之间，所述辅助降温装置通过连接管与辅助冷却设备相连，所述降温系统包括密闭设置的气囊和填充在气囊内部的可流动散热介质，所述降温系统与水冷基板的底面和电池基片贴合。在原有水冷降温组件和电池基片之间增加辅助降温装置，辅助降温装置可以同时和水冷降温组件及电池基片形成紧密面接触，提高降温效率，同时，辅助降温装置与蒸镀舱室外的辅助冷却设备相连，在水冷降温加上辅助降温装置达不到降温需求时，通过开启辅助冷却设备，对辅助降温装置进行降温，这种双重制冷的方法可以有效提高降温效率，改善降温效果，避免电池膜层过热受损。

技术领域

本发明属于真空蒸镀技术领域，具体涉一种真空蒸镀用基片温度控制装置。

背景技术

近年来发现的钙钛矿型太阳能电池由于高转换效率、低成本、环境友善、产品可挠化等优点正在受到越来越广泛的关注。其中，新型钙钛矿性太阳能电池的光电转换效率在短短几年内提升了数倍，表现出非常优异的光电性能，而钙钛矿太阳能电池的制备过程中经常用到PVD(物理气相沉积)技术，其中尤其以真空蒸镀最为常用，蒸镀过程中往往伴随着长时间的高温，钙钛矿电池基板在蒸镀时会由于温度过高而损坏电池功能层，因此，基板的温度控制问题亟待解决。而传统的基片降温技术通常采用刚性的水冷降温组件，由于大面积电池基片置于蒸镀位置时会发生一定程度的弯曲，而刚性的水冷降温组件不能和电池基片的紧密接触，而且最重要的是，高真空环境缺乏传热介质，在无法形成紧密接触的情况下，基片降温效果差。

发明内容

为了解决现有技术中存在的问题，本发明的主要目的是提供一种真空蒸镀用基片温度控制装置，其具有改进的降温系统，在原有水冷降温组件和电池基片之间增加辅助降温装置，辅助降温装置可以同时和水冷降温组件及电池基片形成紧密面接触，提高降温效率，同时，辅助降温装置与蒸镀舱室外的辅助冷却设备相连，在水冷降温加上辅助降温装置达不到降温需求时，通过开启辅助冷却设备，对辅助降温装置进行降温，这种双重制冷的方法可以有效提高降温效率，改善降温效果，避免电池膜层过热受损。

为达上述目的，本发明采用的技术方案是：一种真空蒸镀用基片温度控制装置，包括水冷基板以及开设在水冷基板上的进水口和出水口，还包括辅助降温装置，所述辅助降温装置置于水冷基板与电池基片之间，所述辅助降温装置通过连接管与辅助冷却设备相连，所述降温系统包括密闭设置的气囊和填充在气囊内部的可流动散热介质，所述降温系统与水冷基板的底面和电池基片贴合。

进一步的，所述连接管为不锈钢管道，所述辅助降温装置为气囊。

进一步的，所述辅助降温装置内设置有支撑装置，所述支撑装置竖向设置在辅助降温装置中，在使用过程中，所述支撑装置的顶部支撑在水冷板的下表面，所述支撑装置的底部支撑在电池基片的上表面。

进一步的，所述支撑装置为可伸缩立柱。

进一步的，所述支撑装置为弹簧。

进一步的，所述气囊为橡胶气囊。

进一步的，所述支撑装置均匀分布在所述辅助降温装置内，所述支撑装置的两端连接辅助降温装置上下两面。

进一步的，所述辅助降温装置的上表面能够完全贴合水冷基板的底面。

进一步的，所述流动散热介质为散热硅脂，且辅助降温装置内部无任何气体残留。

进一步的，所述辅助降温装置的内部压力大于散热硅脂的饱和蒸汽压。