[发明专利]一种对压力刺激具有特异性响应的含N化合物、制备方法与应用在审
| 申请号： | 202011481752.6 | 申请日： | 2020-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN112645878A | 公开（公告）日： | 2021-04-13 |
| 发明（设计）人： | 于澍燕;王志锋;童金 | 申请（专利权）人： | 北京工业大学 |
| 主分类号： | C07D231/12 | 分类号： | C07D231/12;C09K11/06 |
| 代理公司： | 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 | 代理人： | 张立改 |
| 地址： | 100124 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 压力 刺激 具有 特异性 响应 化合物 制备 方法 应用 | ||
【权利要求书】：
1.一种对压力刺激具有特异性响应的含N化合物，其特征在于，具有如式(I-IV)所示结构；
2.权利要求1所述的一种对压力刺激具有特异性响应的含N化合物的制备方法，其特征在于，以二溴蒽和吡唑硼酸频哪醇酯为原料，经suzuki反应制得；二溴蒽与吡唑硼酸频哪醇酯的摩尔比为1：4；
二溴蒽为1,8-二溴蒽或9,10-二溴蒽；
吡唑硼酸频哪醇酯选自1-THP-吡唑硼酸频哪醇酯、4-吡唑硼酸频哪醇酯、3-吡唑硼酸频哪醇酯。
3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述Suzuki反应在惰性气体保护，碱性条件以及催化剂作用下进行，所述惰性气体为N2,所用的碱为K2CO3，催化剂为Pd(PPh3)4；所述反应在溶剂中进行，所述溶剂为正丁醇和水，BuOH:H2O的体积比＝3:1。
4.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，以摩尔比计，二溴蒽：吡唑硼酸频哪醇酯：K2CO3：Pd(PPh3)4＝1：4：6.91：0.15。
5.权利要求1所述的对压力刺激具有特异性响应的含N化合物的应用，在光化学器件方面的应用。
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