[发明专利]一种进口过渡真空腔体和磁控溅射镀膜生产线

说明书

本发明提供一种进口过渡真空腔体和磁控溅射镀膜生产线，包括：底座，所述底座与壳体焊接固定，所述壳体一侧开设有若干玻璃插片架通道，所述玻璃插片架通道内螺栓固定安装有玻璃插片架，所述进架通道和出架通道分别与镀膜舱和转运舱开设的相应通道相连通；转运架，所述转运架活动安装在底座上，插片机械手，所述插片机械手用于夹取玻璃并将玻璃插片架上的玻璃转运至玻璃插架上，本发明通过在过渡真空腔体内设置插片装置，使过渡真空腔体内的真空度保持与镀膜腔体相近或一致的状态，大大减少了过渡真空腔体的过渡时间，有效提高了镀膜效率，克服了人工无法在低真空度的条件下工作的障碍，减轻了人工负担。

技术领域

本发明涉及导电膜玻璃连续式磁控溅射镀膜设备技术领域，具体为一种进口过渡真空腔体和磁控溅射镀膜生产线。

背景技术

现有技术中申请号为“CN201210543911.X”的一种多功能连续式磁控溅射镀膜装置，包括至少一个镀膜室，镀膜室内壁上具有用于磁控溅射镀膜的可交替使用的立式靶和倾斜靶，对应立式靶在镀膜室内设置移动式的立式基材承载架，对应倾斜靶在镀膜室内设置移动式的倾斜式基材承载架，通过在镀膜室的靶位口处设置可交替使用的立式靶和倾斜靶，并对应设置立式基材承载架和倾斜式基材承载架，使得镀膜基材在不同要求时可以选用不同的靶材进行镀膜，并且立式靶和倾斜靶的可交替使用，还可以使得镀膜室能适应更多规格的产品镀膜，提高镀膜装置的通用性。

但是上述该多功能连续式磁控溅射镀膜装置在使用过程中仍然存在较为明显的缺陷：1、上述装置在镀膜装置的前后端需要进行人工装片和卸片，由于磁控溅射室内部要求达到较高要求的真空度，因此玻璃插架在进入真空腔体内部需要在过渡真空腔体内进行中转，过渡真空腔体内的真空泵需要将其内部的真空度降低到与镀膜腔体一致后方可进行玻璃插架的转运，因此玻璃在进入镀膜真空腔体之前需要耗费大量的时间去降低过渡真空腔体内部的真空度，此种插片方式是目前几乎所有导电膜玻璃镀膜使用的常规手段，不仅耗费了大量的时间，同时由于过渡舱室需要在真空环境和正常气压下进行频繁转换，对装置的气密性产生较大的影响，长期以往会影响镀膜所需的真空度，进而影响膜层的均匀性和厚度；2、上述装置由于采用人工转运方式进行玻璃的插片，与机器相比，插片效率较低且玻璃插片需要在无尘条件下进行，人工活动难以保证绝对的无尘要求，长期重复性工作容易增大员工工作负担，降低玻璃质量。

发明内容

本发明的目的在于提供一种进口过渡真空腔体和磁控溅射镀膜生产线，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：

一种进口过渡真空腔体，包括：

底座，所述底座与壳体焊接固定，所述壳体一侧开设有若干玻璃插片架通道，所述玻璃插片架通道内螺栓固定安装有玻璃插片架，所述壳体一侧分别开设有进架通道和出架通道，所述进架通道和出架通道分别与镀膜舱和转运舱开设的相应通道相连通；

转运架，所述转运架活动安装在底座上，所述转运架通过平移机构沿底座进行纵向平移，所述转运架上活动连接有玻璃插架；

插片机械手，所述插片机械手用于夹取玻璃并将玻璃插片架上的玻璃转运至玻璃插架上；

所述转运架包括转运台，所述转运台两端通过支撑架与顶部的插架吸附板固定连接，所述转运台上间隔均匀设置有若干转运辊轮。

优选的，所述镀膜舱、转运舱及壳体顶部均安装有真空泵。

优选的，所述转运台两侧沿转运架平移方向开设有贯穿的螺纹通孔，所述平移机构包括平移电机和平移丝杆，所述平移丝杆固定连接在平移电机的驱动轴上，所述平移丝杆与螺纹通孔螺纹连接。

优选的，所述转运台底部两侧均固定安装有滑块，所述滑块分别活动安装在滑槽内，所述滑槽开设在底座内。

优选的，所述转运辊轮通过转运电机驱动。