[发明专利]一种通过磁控溅射镀膜机提高不同金属膜间结合力的方法

权利要求书

1.一种通过磁控溅射镀膜机提高不同金属膜间结合力的方法，其特征在于：包括如下加工步骤：

（1）将待溅射的基材表面进行预处理，将基材表面清洗干净，并将表面烘干，然后置于对应的夹具上固定摆放好，夹具置于磁控溅射镀膜机内安装好；

（2）设定好磁控溅射镀膜机的真空度，调整好磁控溅射镀膜机的溅射功率，以满功率状态在基材上对金属A溅射到所需厚度；

（3）再采用满功率的50 %状态对金属A溅射t1时间，对金属B溅射t2时间；

（4）再用满功率的30 %对金属A溅射t3时间，采用满功率的70 %对金属B溅射t4时间；

（5）再用满功率状态对金属B溅射到所需厚度；

（6）溅射结束后，待磁控溅射镀膜机内自然冷却到室温后放气开门，即可取出镀膜后的产品。

2.根据权利要求1所述的一种通过磁控溅射镀膜机提高不同金属膜间结合力的方法，其特征在于：所述步骤（2）中的真空度为3×10^-4 Pa。

3.根据权利要求1所述的一种通过磁控溅射镀膜机提高不同金属膜间结合力的方法，其特征在于：所述t1与t2时间总和为5 min。

4.根据权利要求1所述的一种通过磁控溅射镀膜机提高不同金属膜间结合力的方法，其特征在于：所述t3与t4时间总和为5 min。

5.根据权利要求1所述的一种通过磁控溅射镀膜机提高不同金属膜间结合力的方法，其特征在于：所述金属A为镍、银、钛、金、铟、铜或铝中的一种。

6.根据权利要求5所述的一种通过磁控溅射镀膜机提高不同金属膜间结合力的方法，其特征在于：所述金属B为镍、银、钛、金、铟、铜或铝中的一种，所述金属A不同于金属B。

7.根据权利要求1所述的一种通过磁控溅射镀膜机提高不同金属膜间结合力的方法，其特征在于：所述基材为PET基材。

8.根据权利要求1所述的一种通过磁控溅射镀膜机提高不同金属膜间结合力的方法，其特征在于：在所述金属B表面还可以进一步增加金属C镀层，其溅射方法与所述步骤（2）到步骤（5）的溅射方法相同，所述金属C选自镍、银、钛、金、铟、铜或铝中的一种，且不同于金属B。

9.根据权利要求1所述的一种通过磁控溅射镀膜机提高不同金属膜间结合力的方法，其特征在于：所述磁控溅射镀膜机在进行溅射时充有氩气进行保护。

10.根据权利要求1所述的一种通过磁控溅射镀膜机提高不同金属膜间结合力的方法，其特征在于：所述满功率为100 W。