[发明专利]全息激光发射器及其制造方法

权利要求书

1.一种全息激光发射器，其特征在于，包括：

激光发射模组，所述激光发射模组包括第一衬底以及设置于所述第一衬底上的发光功能膜层；

体全息光栅模组，所述体全息光栅模组设置于所述发光功能膜层远离所述第一衬底一侧的透光区域。

2.根据权利要求1所述的激光发射器，其特征在于，所述体全息光栅模组，包括：

第二衬底，

体全息光栅膜层，所述体全息光栅膜层设置于所述第二衬底上；

保护层，所述保护层设置于所述体全息光栅膜层远离所述第二衬底一侧。

3.根据权利要求2所述的激光发射器，其特征在于，所述体全息光栅膜层的厚度大于或者等于10微米。

4.根据权利要求2所述的激光发射器，其特征在于，所述体全息光栅膜层的光栅空间频率大于或者等于1000lp/mm。

5.根据权利要求2所述的激光发射器，其特征在于，所述体全息光栅膜层的折射率调制度大于0.05。

6.根据权利要求2所述的激光发射器，其特征在于，所述体全息光栅膜层的材料为光致聚合物或者重铬酸钾明胶。

7.根据权利要求2所述的激光发射器，其特征在于，所述体全息光栅膜层的厚度为12微米，所述体全息光栅层的折射率调制度为0.153，所述体全息光栅膜层的光栅空间频率为2188lp/mm。

8.根据权利要求2所述的激光发射器，其特征在于，所述体全息光栅膜层的厚度为15微米，所述体全息光栅层的折射率调制度为0.153，所述体全息光栅膜层的光栅空间频率为1879lp/mm。

9.根据权利要求2所述的激光发射器，其特征在于，所述体全息光栅膜层的厚度为20微米，所述体全息光栅层的折射率调制度为0.153，所述体全息光栅膜层的光栅空间频率为1579lp/mm。

10.根据权利要求1至9任一所述的激光发射器，其特征在于，所述发光功能膜层，包括：

N型布拉格反射镜组，所述N型布拉格反射镜组设置于所述第一衬底一侧；

有源区，所述有源区设置于所述N型布拉格反射镜组远离所述第一衬底一侧；

氧化限制层，所述氧化限制层设置于所述有源区远离所述第一衬底一侧；

P型布拉格反射镜组，所述P型布拉格反射镜组设置于所述氧化限制层远离所述第一衬底一侧；

钝化层，所述钝化层设置于所述P型布拉格反射镜组远离所述第一衬底一侧的第一区域；

P面电极，所述P面电极设置于所述P型布拉格反射镜组远离所述第一衬底一侧的第二区域，所述第一区域包围所述第二区域，所述第二区域包围所述透光区域。

11.一种全息激光发射器的制造方法，其特征在于，包括：

在第二衬底上依次形成体全息材料膜层和保护膜，得到体全息模组；

按照预设角度向所述体全息模组透射预设波长的干涉光，对所述体全息模组进行曝光，得到体全息光栅模组；

将所述体全息光栅模组贴覆于激光发射模组的透光区域，得到全息激光发射器，所述全息激光发射器用于发射预设波长和偏振模式的激光。