[发明专利]一种碳化硅微管检测装置及方法

权利要求书

1.一种碳化硅微管检测装置，其特征在于，所述装置包括：相机成像装置、光源控制器、起偏器和验偏器，通过光源控制器控制不同的光源经过半反射镜偏折后，通过起偏器和验偏器后照射被测物，生成不同的图像，所述相机成像装置采集图像，判断被测物是否存在瑕疵。

2.如权利要求1所述的一种碳化硅微管检测装置，其特征在于，所述光源控制器连接有第一光源和第二光源，通过光源控制器能够分别控制第一光源和第二光源发光或熄灭。

3.如权利要求2所述的一种碳化硅微管检测装置，其特征在于，所述第二光源照射在第二半反射镜上，所述第二半反射镜的反射面向外倾斜，将光束偏折90度，第二半反射镜上方设置有起偏器。

4.如权利要求3所述的一种碳化硅微管检测装置，其特征在于，所述起偏器将光线变为偏正光，起偏器上方设置有第一半反射镜，第一半反射镜上方设置有被测物，偏正光穿过第一半反射镜照射被测物。

5.如权利要求1所述的一种碳化硅微管检测装置，其特征在于，所述相机成像装置设置在被测物上方，被测物与相机成像装置之间安装有验偏器，通过相机成像装置采集在偏正光照射下的被测物成像图片。

6.如权利要求2所述的一种碳化硅微管检测装置，其特征在于，所述第二光源关闭，第一光源打开，光束照射在第一半反射镜上，第一半反射镜向上倾斜将光束偏折90度，光束直接照射被测物。

7.如权利要求1所述的一种碳化硅微管检测装置，其特征在于，所述相机成像装置采集正常非偏振光照射下的被测物成像图片。

8.如权利要求1所述的一种碳化硅微管检测装置，其特征在于，所述被测物设置在起偏器与第一半反射镜之间，第一半反射镜的反射面向内倾斜，第二光源的光束经过第二半反射镜偏折后经过起偏器照射被测物，形成偏振投射下的图像。

9.如权利要求8所述的一种碳化硅微管检测装置，其特征在于，所述第一半反射镜将第一光源的光束向下偏折90度，照射被测物，经过被测物反射，相机成像系统采集到非偏振光照射下的被测物成像图片。

10.一种碳化硅微管检测方法，其特征在于，所述方法为：

光源控制器控制第二光源发光，光束照射到第二半反射镜；

第二半反射镜将光束偏折90度，向上照射至起偏器；

起偏器将光束变为偏正光，偏正光穿过第一半反射镜，照射被测物；

经过验偏器，利用相机成像装置采集偏振透射下的图像；

光源控制器控制第二光源熄灭，第一光源发光，光束照射到第一半反射镜上；

第一半反射镜将光束偏折90度，向上照射被测物；

经过验偏器，利用相机成像装置采集非偏振透射下的图像；

利用相机成像装置将偏振透射下的图像和非偏振透射下的图像进行联合判断，被测物内是否存在瑕疵。