[发明专利]结构光测量传感器的标定方法和装置有效

专利信息
申请号: 202011516778.X 申请日: 2020-12-21
公开(公告)号: CN112710235B 公开(公告)日: 2022-08-26
发明(设计)人: 黄秀林 申请(专利权)人: 阿波罗智联(北京)科技有限公司
主分类号: G01B11/00 分类号: G01B11/00
代理公司: 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 代理人: 王达佐;马晓亚
地址: 100176 北京市大兴区北京经*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 结构 测量 传感器 标定 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种结构光测量传感器的标定方法,所述方法包括:

设定标定板位置,以使待测的结构光测量传感器发出的结构光照射在标定板的侧面上,形成所述侧面呈现的光线,其中,一个结构光照射在相邻的两个侧面且所述两个侧面分别呈现一条光线;

获取所述光线的图像,并确定对所述图像中所述光线的图像分割结果,作为光线线条,对所述光线线条进行细化处理,得到细化光线线条;

获取所述结构光照射在的侧面的位姿,基于所述位姿,确定所述细化光线线条对应的三维点云;

利用所述三维点云,拟合所述结构光的平面方程。

2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述结构光为至少两条结构光;

所述获取所述结构光照射在的侧面的位姿,基于所述位姿,确定所述细化光线线条对应的三维点云,包括:

对于所述至少两条结构光中的结构光,获取该结构光照射在的两个侧面的位姿,基于该两个侧面中每个侧面的位姿,确定该两个侧面的细化光线线条分别对应的三维点云。

3.根据权利要求2所述的方法,其中,所述利用所述三维点云,拟合所述结构光的平面方程,包括:

对于所述至少两条结构光中的结构光,通过该结构光照射在的两个侧面的细化光线线条所对应的两个三维点云,拟合该结构光对应的平面方程。

4.根据权利要求1-3之一所述的方法,其中,所述基于所述位姿,确定所述细化光线线条对应的三维点云,包括:

获取所述结构光测量传感器的内参和外参;

通过所述内参、所述外参和所述位姿,确定所述细化光线线条对应的三维点云。

5.根据权利要求1所述的方法,其中,所述结构光照射在的侧面的位姿的生成步骤,包括:

获取所述标定板的正面的位姿;

利用所述正面的位姿,确定所述结构光照射在的侧面的位姿。

6.一种结构光测量传感器的标定装置,所述装置包括:

设定单元,被配置成设定标定板位置,以使待测的结构光测量传感器发出的结构光照射在标定板的侧面上,形成所述侧面呈现的光线,其中,一个结构光照射在相邻的两个侧面且所述两个侧面分别呈现一条光线;

获取单元,被配置成获取所述光线的图像,并确定对所述图像中所述光线的图像分割结果,作为光线线条,对所述光线线条进行细化处理,得到细化光线线条;

确定单元,被配置成获取所述结构光照射在的侧面的位姿,基于所述位姿,确定所述细化光线线条对应的三维点云;

拟合单元,被配置成利用所述三维点云,拟合所述结构光的平面方程。

7.根据权利要求6所述的装置,其中,所述结构光为至少两条结构光;

所述确定单元,进一步被配置成按照如下方式执行所述获取所述结构光照射在的侧面的位姿,基于所述位姿,确定所述细化光线线条对应的三维点云:

对于所述至少两条结构光中的结构光,获取该结构光照射在的两个侧面的位姿,基于该两个侧面中每个侧面的位姿,确定该两个侧面的细化光线线条分别对应的三维点云。

8.根据权利要求7所述的装置,其中,所述拟合单元,进一步被配置成按照如下方式执行所述利用所述三维点云,拟合所述结构光的平面方程:

对于所述至少两条结构光中的结构光,通过该结构光照射在的两个侧面的细化光线线条所对应的两个三维点云,拟合该结构光对应的平面方程。

9.根据权利要求6-8之一所述的装置,其中,所述确定单元,进一步被配置成按照如下方式执行所述基于所述位姿,确定所述细化光线线条对应的三维点云:

获取所述结构光测量传感器的内参和外参;

通过所述内参、所述外参和所述位姿,确定所述细化光线线条对应的三维点云。

10.根据权利要求6所述的装置,其中,所述结构光照射在的侧面的位姿的生成步骤,包括:

获取所述标定板的正面的位姿;

利用所述正面的位姿,确定所述结构光照射在的侧面的位姿。

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