[发明专利]一种基于磁性磨粒流的光学玻璃抛光方法及其装置

权利要求书

1.一种基于磁性磨粒流的光学玻璃抛光方法，其特征在于：在聚合物胶体中加入磁性磨粒、加工磨粒和分散剂，制备具有高浓度磁性磨粒的抛光液；其中，磁性磨粒占抛光液的质量分数为75％～95％，聚合物胶体的质量分数为10％～20％，加工磨粒的质量分数为1％～5％，分散剂的质量分数为0.5％～2％。

在抛光过程中，光学玻璃零件与抛光液之间做相对运动，采用磁场发生器给所述抛光液施加磁场，调节抛光液中磨粒的聚集度，增加零件与磨粒之间的摩擦力，进而实现磨粒对零件的微量去除，达到高效抛光的效果。

2.如权利要求1所述的一种基于磁性磨粒流的光学玻璃抛光方法，其特征在于：所述的磁性磨粒为铁氧体粉末或羟基铁粉，粒径范围为0.05～3μm；所述的聚合物胶体为硅溶胶或铝溶胶；所述的加工磨粒为金刚石、碳化硅、氧化铝、氧化铈、氧化硅、氧化锆、氧化钛的一种或几种磨粒的混合物，粒径范围为0.5～30μm，磨粒的种类、粒度和浓度根据抛光工件的加工质量和效率选取。

3.如权利要求1所述的一种基于磁性磨粒流的光学玻璃抛光方法，其特征在于：在所述抛光液中，可以加入分散剂以防止磁性磨粒和加工磨粒的沉降和凝聚。所述的分散剂为油酸、聚乙二醇、六偏磷酸钠、焦磷酸钠、聚乙烯醇的一种或几种混合物，分散剂的种类和浓度根据加工磨粒和聚合物胶体种类以及加工工件的材料特性选取。

4.一种基于磁性磨粒流的光学玻璃抛光装置，其特征在于：包括用于盛放抛光液的抛光槽、磁场发生器和用于固定零件的夹具，所述磁场发生器安装在所述抛光槽的周围，所述夹具位于所述抛光槽上方。

5.如权利要求4所述的一种基于磁性磨粒流的光学玻璃抛光装置，其特征在于：所述抛光槽包括粗加工抛光槽和精加工抛光槽，所述粗加工抛光槽中抛光液的加工磨粒为硬度和粒度较大的磨粒，所述精加工抛光槽中抛光液的加工磨粒为硬度和粒度较小的磨粒。

6.如权利要求4所述的一种基于磁性磨粒流的光学玻璃抛光装置，其特征在于：所述磁场发生器为螺旋结构的电磁激励线圈。

7.如权利要求4所述的一种基于磁性磨粒流的光学玻璃抛光装置，其特征在于：所述夹具与用于驱动夹具转动以及上下左右前后移动的驱动机构连接。