[发明专利]一种精细线路刻蚀液在审
申请号: | 202011518116.6 | 申请日: | 2020-12-21 |
公开(公告)号: | CN112680732A | 公开(公告)日: | 2021-04-20 |
发明(设计)人: | 刘维富 | 申请(专利权)人: | 江西遂川光速电子有限公司 |
主分类号: | C23F1/44 | 分类号: | C23F1/44;C23F1/20;H05K3/06 |
代理公司: | 合肥德驰知识产权代理事务所(普通合伙) 34168 | 代理人: | 刘希慧 |
地址: | 343900 江*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 精细 线路 刻蚀 | ||
本发明公开了一种精细线路刻蚀液,其组分包括30‑40%无机酸性液、20‑30%有机酸液、5‑10%缓冲刻蚀剂(BOE)、3‑10%铝刻蚀剂、5‑10%铜保护剂、2‑5%钼保护剂,该刻蚀液能够在进行刻蚀的同时,有效保护电路板上金属层内的铜、钼等关键性金属物质在刻蚀时免遭损坏,有效提高了电路板刻蚀的合格率。
技术领域
本发明涉及电路板领域,特别是涉及一种精细线路刻蚀液。
背景技术
电路板是当今电子产品中不可缺少的元器件,其在加工过程中需要通过刻蚀在其表面开槽,进行布线。由于蚀刻液对于不同金属材料的蚀刻能力亦有所不同,因此在进行蚀刻的多层金属中,各层金属材料受到蚀刻的程度亦会因金属种类的不同有所差异。在刻蚀过程中,难免造成一些关键性金属损失过多,影响电路板的品质。
发明内容
一种精细线路刻蚀液,所述刻蚀液的组分包括:
无机酸性液,以该蚀刻液组合物总重计,含量为30-50%;
有机酸液,以该蚀刻液组合物总重计,含量为20-30%;
缓冲刻蚀剂(BOE),以该蚀刻液组合物总重计,含量为5-20%;铝刻蚀剂,以该蚀刻液组合物总重计,含量为3-20%;
铜保护剂,以该蚀刻液组合物总重计,含量为5-10%;
钼保护剂,以该蚀刻液组合物总重计,含量为2-10%。
优选的,所述无机酸性液包括磷酸、氢氟酸、硝酸。
优选的,所述磷酸、氢氟酸、硝酸配比为1:1:3。
优选的,所述有机酸液包括乙醇酸、琥珀酸、甲酸。
优选的,所述乙醇酸、琥珀酸、甲酸配比为2:1:2。
优选的,所述铜保护剂为五水硫酸铜。
优选的,所述钼保护剂为硫酸钼。
有益效果:本发明提供了一种精细线路刻蚀液,其组分包括30-40%无机酸性液、20-30%有机酸液、5-10%缓冲刻蚀剂(BOE)、3-10%铝刻蚀剂、5-10%铜保护剂、2-5%钼保护剂,该刻蚀液能够在进行刻蚀的同时,有效保护电路板上金属层内的铜、钼等关键性金属物质在刻蚀时免遭损坏,有效提高了电路板刻蚀的合格率,所述无机酸性液包括磷酸、氢氟酸、硝酸,所述磷酸、氢氟酸、硝酸配比为1:1:3,该无机酸能够有效起到在基材表面通过腐蚀开槽的目的,所述有机酸液包括乙醇酸、琥珀酸、甲酸,所述乙醇酸、琥珀酸、甲酸配比为2:1:2,该有机酸一方面能够确保刻蚀液的酸性,另一方面能够降低氢氟酸的使用,使得刻蚀液的危害性降低,同时减少废液的产生,所述铜保护剂为五水硫酸铜,该成分中的二价铜离子能够有效保护基材中的金属铜,即通过还原反应将二价铜离子置换为零价铜,所述钼保护剂为硫酸钼,该成分通过通过还原反应有效防止基材中的钼被腐蚀。
具体实施方式
为使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体实施方式,进一步阐述本发明。
实施例1:
一种精细线路刻蚀液,所述刻蚀液的组分包括:
无机酸性液,以该蚀刻液组合物总重计,含量为50%;
有机酸液,以该蚀刻液组合物总重计,含量为30%;
缓冲刻蚀剂(BOE),以该蚀刻液组合物总重计,含量为5%;铝刻蚀剂,以该蚀刻液组合物总重计,含量为5%;
铜保护剂,以该蚀刻液组合物总重计,含量为5%;
钼保护剂,以该蚀刻液组合物总重计,含量为5%。
实施例2:
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