[发明专利]OLED器件透明阴极及其制作方法

说明书

一种OLED器件透明阴极及其制作方法，包括：采用原子层沉积方法在OLED器件表面直接沉积透明导电的阴极薄膜；所述原子层沉积方法制备时采用二乙基锌作为锌源材料，三甲基铝作为铝源原料以及双氧水作为氧源原料。有效避免了现有技术中的制备方法在OLED的透明阴极层领域存在工艺匹配度差或薄膜损伤的缺陷。

技术领域

本发明实施例涉及一种OLED器件用透明阴极及其制作技术领域，尤其是一种OLED显示技术领域,具体涉及一种OLED器件透明阴极及其制作方法。

背景技术

OLED,即有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，OLED),是20世纪中期发展起来的一种新型显示器件。OLED具有超轻薄、全固态、主动发光、响应速度快、高对比度、无视角限制、工作温度范围宽、低功耗、低成本、抗震能力强和可实现柔性显示等诸多优点,被誉为“梦幻显示器”。OLED显示器的优越性能和巨大的市场潜力,吸引全世界众多厂家和科研机构投入到OLED器件的生产和研发中。OLED属于一种电流型的有机发光器件，是通过载流子的注入和复合而致发光的现象，发光强度与注入的电流成正比。OLED在电场的作用下，阳极产生的空穴和阴极产生的电子就会发生移动，分别向空穴传输层和电子传输层注入，迁移到发光层。当二者在发光层相遇时，产生能量激子，从而激发发光分子最终产生可见光。OLED一般分为顶发射器件和底发射器件，对于顶发射器件而言，光线由阴极发出，形成显示画面或特定色彩，其中阴极的性能对OLED器件性能而言有着至关重要的影响，其中阴极薄膜的透光性与导电性成为了阴极制作工艺中必须要考虑的因素。通常的，阴极一般使用金属材料(如Ag、Al、Au等)，只有在厚度非常薄的情况下才具有一定的透光性，然而，当阴极很薄时，金属材料的连接存在断开的风险，或存在金属薄膜局部易氧化的问题，影响阴极层的导电均匀性；如果阴极层厚度很厚，金属材料的高光吸收特性，导致其无法很好的透过可见光线，影响OLED器件的透光性。

一般的OLED器件的结构,包括:OLED衬底基板、高反射率金属阳极、OLED底部空穴传输层、OLED底部发光层、OLED底部电子传输层、OLED电荷产生层、OLED顶部空穴传输层、OLED顶部发光层、OLED顶部电子传输层和透明阴极层。其中高反射率金属阳极一般采用导电性较好且可见光反射率较高的金属铝、钼、钛、铬或银薄膜。透明阴极层一般采用厚度均匀的纳米镁、银金属膜，通过调节镁、银的比例及厚度来控制金属层的透光性和导电性。现行做法下主要采用真空热蒸发方法、脉冲热沉积方法等技术制作纳米镁、银复合薄膜，厚度通常只有20nm以下。

随着OLED技术的发展,OLED器件的应用领域越来越宽广,应用环境要求也越来越苛刻,尤其在某些特殊应用领域，需要高亮度显示(20000cd/m²),在此情况下，对阴极的透光性与导电性都提出了较高的要求。

一般的兼具透明度与导电性的材料除金属纳米薄膜外，还有部分透明金属氧化物具有导电性，如氧化锌、氧化铟锡、铟锌氧化物等氧化物薄膜，透光性较好，其一般制备方法为溶胶凝胶法、磁控溅射法等过程，这些制备方法在OLED领域存在工艺匹配度差或薄膜损伤等问题。

因此如何将OLED器件的阴极制作工艺拓展出不损伤衬底有机薄膜的同时，具备工艺兼容性的透明阴极层仍是摆在本领域研发人员面前的一个技术难题。

发明内容

为解决上述问题，本发明实施例给出了一种OLED器件透明阴极及其制作方法，有效避免了现有技术中的制备方法在OLED的透明阴极层领域存在工艺匹配度差或薄膜损伤的缺陷。

为了克服现有技术中的不足，本发明实施例给予了一种OLED器件透明阴极及其制作方法的解决方案，具体如下：

一种OLED器件透明阴极的制作方法，包括：

采用原子层沉积方法在OLED器件表面直接沉积透明导电的阴极薄膜；

所述原子层沉积方法制备时采用二乙基锌作为锌源材料，三甲基铝作为铝源原料以及双氧水作为氧源原料。