[发明专利]背光模组及其制备方法有效
| 申请号： | 202011525236.9 | 申请日： | 2020-12-22 |
| 公开（公告）号： | CN112542102B | 公开（公告）日： | 2023-07-14 |
| 发明（设计）人： | 孙朝宁;赵振博;陈程成 | 申请（专利权）人： | 中国电子产品可靠性与环境试验研究所（（工业和信息化部电子第五研究所）（中国赛宝实验室）） |
| 主分类号： | G09F9/33 | 分类号： | G09F9/33;G03F7/20 |
| 代理公司： | 华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 郭凤杰 |
| 地址： | 511300 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 背光 模组 及其 制备 方法 | ||
1.一种背光模组的制备方法，其特征在于，包括：
提供驱动背板；
在所述驱动背板上表面设置多个发光单元；
制备扩散层；
将所述扩散层设置于所述驱动背板上，覆盖所述发光单元；
其中，所述扩散层包括交替排布凹结构及凸结构，所述凹结构的中心与所述发光单元的中心相对应，所述凸结构的中心与相邻所述发光单元之间的间隙的中心相对应；
使用数字光刻工艺制备所述扩散层的步骤包括：
在基板上形成具有第一折射率的第一透明有机光阻层；
导入第一图案到数字光刻机，基于所述第一图案使用所述数字光刻机对所述第一透明有机光阻层进行数字曝光；
将数字曝光后的所述第一透明有机光阻层进行显影处理，以在所述第一透明有机光阻层上形成均匀间隔排布的凹槽；
在所述第一透明有机光阻层上形成具有第二折射率的第二透明有机光阻层；
导入第二图案到所述数字光刻机，基于所述第二图案使用所述数字光刻机对所述第二透明有机光阻层进行数字曝光；
将数字曝光后的所述第二透明有机光阻层进行显影处理，以在所述第二透明有机光阻层上形成所述凹结构和所述凸结构；
所述第二图案包括凸结构图案和凹结构图案；
使用数字光刻工艺制备所述扩散层的步骤还包括：使用所述第二透明有机光阻层填平所述凹槽，并仅保留所述凹槽中的第二透明有机光阻层，得到所述凹结构；
使用所述凸结构图案补全所述凹槽得到所述凸结构；
形成又一层所述第一透明有机光阻层，形成的又一层所述第一透明有机光阻层覆盖所述凹结构和所述凸结构，且上表面为平面；
所述第一折射率小于所述第二折射率。
2.根据权利要求1所述的背光模组制备方法，其特征在于，所述凹结构图案与所述第一图案相同。
3.根据权利要求1所述的背光模组制备方法，其特征在于，所述第一图案为半椭球形；所述凸结构是椭球形。
4.根据权利要求1所述的背光模组制备方法，其特征在于，所述凹结构包括一个或多个凹单元；所述凸结构包括一个或多个凸单元。
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