[发明专利]一种光刻胶清洗剂组合物

权利要求书

1.一种光刻胶清洗剂组合物，其特征在于，组合物的组成及其重量百分比为：

季铵氢氧化物 5-20％；

烷醇胺 5-30％；

二醇醚化合物 10-60％；

碳酸酯类化合物 1-20％；

氨基酸 0.1-5％；

缓蚀剂 0.1-5%

润湿剂 0.001～10%；

去离子水 余量；

所述季铵氢氧化物选自四甲基铵氢氧化物、四乙基铵氢氧化物、四丙基铵氢氧化物、四丁基铵氢氧化物、二甲基二乙基铵氢氧化物、胆碱、四乙醇铵氢氧化物、苄基三甲基铵氢氧化物、苄基三乙基铵氢氧化物或苄基三丁基铵氢氧化物中的一种或多种；

所述烷醇胺选自单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、2-（2-氨基乙氧基）乙醇、N，N-二甲基乙醇胺、N，N-二乙基乙醇胺、N，N-二丁基乙醇胺、N-甲基乙醇胺、N-乙基乙醇胺、N-丁基乙醇胺、N-甲基二乙醇胺、单异丙醇胺、二异丙醇胺或三异丙醇胺一种或多种；

所述碳酸酯类化合物选自碳酸亚乙酯、碳酸亚丙酯、碳酸亚丁酯、碳酸乙烯亚乙酯、氯代碳酸乙烯酯、4-三氟代甲基碳酸乙烯酯、氟代碳酸乙烯酯、碳酸二甲酯、1，2-亚丁基碳酸酯、2，3-亚丁基碳酸酯、碳酸甲乙酯、碳酸二甲酯、碳酸二乙酯、碳酸甲丙酯一种或多种；

所述二醇醚化合物选自乙二醇甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单正丙醚、乙二醇单异丙醚、乙二醇单正丁醚、二甘醇甲醚、二甘醇单乙醚、二甘醇单丁醚、三甘醇甲醚、三甘醇单乙醚、三甘醇单丁醚、1-甲氧基-2-丙醇、2-甲氧基-1-丙醇、1-乙氧基-2-丙醇、2-乙氧基-1-丙醇、丙二醇单正丙基醚、二丙二醇单甲醚、二丙二醇单乙醚、二丙二醇单正丙基醚、三丙二醇单乙醚、三丙二醇单甲醚、乙二醇单苄基醚或二乙二醇单苄基醚中一种或多种；

所述氨基酸选自丙氨酸、甘氨酸、亮氨酸、脯氨酸、半胱氨酸、苏氨酸、赖氨酸中的一种或多种；

所述缓蚀剂为复配型缓蚀剂，其中主缓蚀剂为有机膦酸类，副缓蚀剂为糖醇类化合物，有机膦酸类缓蚀剂与糖醇类化合物缓蚀剂的重量比为4:1-1:1；

所述有机膦酸类缓蚀剂选自1-羟基亚乙基-1，1-二膦酸，氨基三（亚甲基膦酸），乙二胺四（亚甲基膦酸），二亚乙基三胺戊（亚甲基膦酸）；所述糖醇类化合物缓蚀剂选自山梨糖醇、甘露糖醇、赤藓糖醇、麦芽糖醇、乳糖醇、木糖醇；

润湿剂为全氟烷基乙醇聚氧乙烯醚非离子表面活性剂，所述全氟烷基乙醇聚氧乙烯醚的结构通式为CF₃CF₂(CF₂CF₂)_nCH₂CH₂O(CH₂CH₂O)_mH，其中n和m分别为3-6 和10-12 的整数。

2.根据权利要求1所述的一种光刻胶清洗剂组合物，其特征在于：

季铵氢氧化物的含量为10-15％；

烷醇胺的含量为10-15％；

二醇醚化合物的含量为20～50％；

碳酸酯类化合物的含量为5-15％；

氨基酸的含量为0.3-3％；

缓蚀剂的含量为0.3-3％；

润湿剂的含量为0.001～5％；

去离子水的含量为5～20％。

3.根据权利要求1所述的一种光刻胶清洗剂组合物，其特征在于：所述季铵氢氧化物为四甲基氢氧化铵或四丁基氢氧化铵。

4.根据权利要求1所述的一种光刻胶清洗剂组合物，其特征在于：所述烷醇胺为单乙醇胺和/或N-甲基乙醇胺。

5.根据权利要求1所述的一种光刻胶清洗剂组合物，其特征在于：所述碳酸酯类化合物为碳 酸亚乙酯和/或碳酸亚丙酯。

6.根据权利要求1所述的一种光刻胶清洗剂组合物，其特征在于：所述二醇醚化合物为二丙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚或三丙二醇单乙醚的一种或多种。

7.根据权利要求1所述的一种光刻胶清洗剂组合物，其特征在于：所述氨基酸为亮氨酸和/或半胱氨酸。