[发明专利]一种半导体模块的封装方法及半导体模块在审

专利信息
申请号: 202011531222.8 申请日: 2020-12-22
公开(公告)号: CN112701049A 公开(公告)日: 2021-04-23
发明(设计)人: 王琇如;唐和明 申请(专利权)人: 杰群电子科技(东莞)有限公司
主分类号: H01L21/48 分类号: H01L21/48;H01L23/367;H01L23/498
代理公司: 北京泽方誉航专利代理事务所(普通合伙) 11884 代理人: 唐明磊
地址: 523000 广东省东莞*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 半导体 模块 封装 方法
【权利要求书】:

1.一种半导体模块的封装方法,其特征在于,包括:

准备步骤:在加工载板(90)上放置引线框架(10);

第一结合步骤:采用导电结合材料(61)将晶片(41)的背面与引线框架(10)的正面结合,使晶片(41)的背面电极(412)与引线框架(10)电连接,形成一级结构;

压合步骤:将DAF材料覆盖并压合于所述一级结构的正面,形成DAF层(20);

第二结合步骤:在所述DAF层(20)的正面设置金属层(30),将所述金属层(30)与所述晶片(41)的正面电极(411)电连接;

穿孔步骤:加工贯穿所述DAF层(20)的导通孔(81);

导通步骤:在所述导通孔(81)内设置导电结构(82);

撤板步骤:去除所述加工载板(90);

刻图案步骤:将所述引线框架(10)刻成图案化导电层,所述引线框架(10)包括与所述导电结构(82)电连接的第一导电部(11),至少一所述第一导电部(11)与所述背面电极(412)电连接;将所述金属层(30)刻成图案化导电层,所述金属层(30)包括第二导电部(31),至少一所述第二导电部(31)通过所述导电结构(82)与所述第一导电部(11)电连接,至少一所述第二导电部(31)与所述正面电极(411)电连接。

2.根据权利要求1所述的半导体模块的封装方法,其特征在于,在所述第二结合步骤之前,还包括植球步骤;所述植球步骤包括:在所述正面电极(411)植焊球(70);

对应的,所述第二结合步骤包括:将所述金属层(30)与所述焊球(70)结合,从而将所述金属层(30)与所述正面电极(411)电连接。

3.根据权利要求2所述的半导体模块的封装方法,其特征在于,在所述植球步骤之前,包括晶圆(40)提供步骤;所述晶圆(40)提供步骤包括:提供晶圆(40),晶圆(40)包括若干晶片(41);

对应的,所述植球步骤包括:在所述晶圆(40)上,将所述焊球(70)结合于所述晶片(41)的正面电极(411);

对应的,在所述植球步骤之后,包括切割步骤:所述切割步骤包括:将所述晶圆(40)切割形成若干晶片(41)。

4.根据权利要求1所述的半导体模块的封装方法,其特征在于,所述第一结合步骤还包括:

提供被动元件(50),采用导电结合材料(61)将所述被动元件(50)的背面与所述引线框架(10)的正面结合,所述被动元件(50)的电接点通过所述第一导电部(11)与所述导电结构(82)电连接。

5.根据权利要求1所述的半导体模块的封装方法,其特征在于,在所述穿孔步骤中:通过镭射钻孔的加工工艺,在所述DAF层(20)加工所述导通孔(81);

在所述导通步骤中:通过印刷工艺或电镀工艺,将导电材料填充于所述导通孔(81)内,以形成所述导电结构(82);

在所述刻图案步骤中:通过光刻工艺或蚀刻工艺,在所述引线框架(10)刻出图案,以形成若干所述第一导电部(11);通过光刻工艺或蚀刻工艺,在所述金属层(30)刻出图案,以形成若干所述第二导电部(31)。

6.一种半导体模块,其特征在于,包括:

引线框架(10),其为图案化导电层;所述引线框架(10)包括第一导电部(11);

晶片(41),其正面设有正面电极(411),背面设有背面电极(412);所述晶片(41)的背面通过导电结合层(62)结合于所述第一导电部(11)的正面;

DAF层(20),其覆盖所述引线框架(10)的正面以及所述晶片(41);所述DAF层(20)与所述引线框架(10)结合形成基板;

金属层(30),其为第二图案化导电层;所述金属层(30)结合于所述基板的正面;所述金属层(30)包括第二导电部(31);所述正面电极(411)与所述第二导电部(31)电连接;

导电结构(82),其设于DAF层(20)内;所述导电结构(82)的一端与所述第一导电部(11)电连接,所述导电结构(82)用于将所述背面电极(412)引至所述半导体模块的正面。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于杰群电子科技(东莞)有限公司,未经杰群电子科技(东莞)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011531222.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top