[发明专利]虚拟换装方法及相关设备

权利要求书

1.一种虚拟换装方法，其特征在于，包括：

获取待换装对象图像和服饰透底图；

对所述待换装对象图像进行分割，获得所述待换装对象图像的目标服饰区域的掩膜；

通过流形变模型对所述掩膜和所述服饰透底图进行处理，获得目标流，所述目标流用于表征所述掩膜和所述服饰透底图中的像素之间的对应关系，所述流形变模型包括第一下采样结构、第二下采样结构、第一上采样结构、第二上采样结构、第一融合结构、第二融合结构、第三融合结构、第四融合结构、第三上采样结构和第一形变结构，所述第一下采样结构包括第一残差模块和第二残差模块，所述第二下采样结构包括第三残差模块和第四残差模块；

根据所述目标流获得形变后的服饰透底图，使得所述服饰透底图的每个像素通过流的形变转移到所述目标服饰区域的对应位置，实现所述服饰透底图中的新目标服饰到所述目标服饰区域的形变；

融合所述待换装对象图像、所述掩膜和所述形变后的服饰透底图，获得目标成品图像，所述目标成品图像中用所述形变后的服饰透底图中的新目标服饰替换所述待换装对象图像的原目标服饰；

其中，通过流形变模型对所述掩膜和所述服饰透底图进行处理，获得目标流，包括：

通过所述第一下采样结构的第一残差模块和第二残差模块分别对所述掩膜进行下采样，获得第一尺寸的第一掩膜特征向量及第二尺寸的第二掩膜特征向量，所述第一尺寸大于所述第二尺寸；

通过所述第一上采样结构对所述第二掩膜特征向量进行上采样，获得所述第一尺寸的上采样后的第二掩膜特征向量；

通过所述第一融合结构融合所述上采样后的第二掩膜特征向量和所述第一掩膜特征向量，获得所述第一尺寸的第一掩膜融合特征向量；

通过所述第二下采样结构的第三残差模块和第四残差模块分别对所述服饰透底图进行下采样，获得所述第一尺寸的第一透底图特征向量及所述第二尺寸的第二透底图特征向量；

通过所述第二上采样结构对所述第二透底图特征向量进行上采样，获得所述第一尺寸的上采样后的第二透底图特征向量；

通过所述第二融合结构融合所述上采样后的第二透底图特征向量和所述第一透底图特征向量，获得所述第一尺寸的第一透底图融合特征向量；

通过第三融合结构融合所述第二透底图特征向量和所述第二掩膜特征向量，获得第一流；

通过所述第三上采样结构对所述第一流进行上采样，获得上采样后的第一流；

通过所述第一形变结构根据所述上采样后的第一流对所述第一透底图融合特征向量进行处理，以使所述新目标服饰移动至所述目标服饰区域的对应位置，获得第一透底图形变特征向量；

通过所述第四融合结构融合所述第一透底图形变特征向量和所述第一掩膜融合特征向量，获得所述目标流。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一残差模块、所述第二残差模块、所述第三残差模块和所述第四残差模块均依次包括卷积层、批归一化层及激活层，所述第一残差模块和所述第二残差模块的卷积层的通道数依次递增，所述第三残差模块和所述第四残差模块的卷积层的通道数依次递增。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，融合所述待换装对象图像、所述掩膜和所述形变后的服饰透底图，获得目标成品图像，包括：

根据所述掩膜，去除所述待换装对象图像中的目标服饰区域对应的原目标服饰；

将所述掩膜和所述形变后的服饰透底图融合后放置到所述待换装对象图像中对应的目标服饰区域，获得所述目标成品图像。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，将所述掩膜和所述形变后的服饰透底图融合后放置到所述待换装对象图像中对应的目标服饰区域，获得所述目标成品图像，包括：

提取所述待换装对象图像的目标服饰区域对应的原目标服饰的阴影图像；

将所述掩膜和所述形变后的服饰透底图融合后放置到所述待换装对象图像中对应的服饰区域，获得初始成品图像；

将所述阴影图像叠加到所述初始成品图像对应的服饰区域，获得所述目标成品图像。