[发明专利]虚拟换装方法及相关设备有效

专利信息
申请号: 202011533053.1 申请日: 2020-12-23
公开(公告)号: CN112258389B 公开(公告)日: 2021-11-02
发明(设计)人: 申童;张炜;梅涛;周伯文 申请(专利权)人: 北京沃东天骏信息技术有限公司;北京京东世纪贸易有限公司
主分类号: G06T3/00 分类号: G06T3/00
代理公司: 北京律智知识产权代理有限公司 11438 代理人: 孙宝海;阚梓瑄
地址: 100176 北京市大兴区北京经济*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 虚拟 换装 方法 相关 设备
【说明书】:

本公开提供了一种虚拟换装方法、装置、电子设备及存储介质。该方法包括:获取待换装对象图像和服饰透底图;对待换装对象图像进行分割,获得待换装对象图像的目标服饰区域的掩膜;通过流形变模型对掩膜和服饰透底图进行处理,获得目标流,目标流用于表征掩膜和服饰透底图中的像素之间的对应关系;根据目标流获得形变后的服饰透底图,使得服饰透底图的每个像素通过流的形变转移到目标服饰区域的对应位置,实现服饰透底图中的新目标服饰到目标服饰区域的形变;融合待换装对象图像、掩膜和形变后的服饰透底图,获得目标成品图像。该方法可以获得真实、新目标服饰和待换装对象匹配准确的目标成品图像。

技术领域

本公开涉及计算机技术领域,尤其涉及一种虚拟换装方法、装置、电子设备及存储介质。

背景技术

虚拟换装可以指给定人物照片和衣服透底图,将人物照片与衣服透底图结合,获得穿着衣服透底图中的衣服的新人物照片。虚拟换装可以用虚拟的方式展示不同衣服的试穿效果。此任务主要有几个技术难点:透底图和目标姿势的匹配、衣服上的阴影褶皱以及衣服边缘的处理。

相关技术中的虚拟换装方法,通常根据大量数据的训练,使得模型初步具备生成目标人物穿指定衣服的能力。但是,这种方法较为依赖训练数据集,如果测试数据与训练数据差异较大,模型的输出结果往往和训练数据更加接近,和测试数据差距很大。

需要说明的是,在上述背景技术部分公开的信息仅用于加强对本公开的背景的理解,因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。

发明内容

本公开的目的在于提供一种虚拟换装方法、装置、电子设备及存储介质,该方法可以获得真实、新目标服饰和待换装对象匹配准确的目标成品图像。

本公开的其他特性和优点将通过下面的详细描述变得显然,或部分地通过本公开的实践而习得。

本公开实施例提供一种虚拟换装方法,包括:获取待换装对象 图像和服饰透底图;对待换装对象图像进行分割,获得待换装对象图像的目标服饰区域的掩膜;通过流形变模型对掩膜和服饰透底图进行处理,获得目标流,目标流用于表征掩膜和服饰透底图中的像素之间的对应关系;根据目标流获得形变后的服饰透底图,使得服饰透底图的每个像素通过流的形变转移到目标服饰区域的对应位置,实现服饰透底图中的新目标服饰到目标服饰区域的形变;融合待换装对象图像、掩膜和形变后的服饰透底图,获得目标成品图像,目标成品图像中用形变后的服饰透底图中的新目标服饰替换待换装对象图像的原目标服饰。

在本公开一些示例性实施例中,流形变模型包括第一下采样结构、第二下采样结构、第一上采样结构、第二上采样结构、第一融合结构及第二融合结构,第一下采样结构包括第一残差模块和第二残差模块,第二下采样结构包括第三残差模块和第四残差模块,其中,通过流形变模型对掩膜和服饰透底图进行处理,获得目标流,包括:通过第一下采样结构的第一残差模块和第二残差模块分别对掩膜进行下采样,获得第一尺寸的第一掩膜特征向量及第二尺寸的第二掩膜特征向量,第一尺寸大于第二尺寸;通过第一上采样结构对第二掩膜特征向量进行上采样,获得第一尺寸的上采样后的第二掩膜特征向量;通过第一融合结构融合上采样后的第二掩膜特征向量和第一掩膜特征向量,获得第一尺寸的第一掩膜融合特征向量;通过第二下采样结构的第三残差模块和第四残差模块分别对服饰透底图进行下采样,获得第一尺寸的第一透底图特征向量及第二尺寸的第二透底图特征向量;通过第二上采样结构对第二透底图特征向量进行上采样,获得第一尺寸的上采样后的第二透底图特征向量;通过第二融合结构融合上采样后的第二透底图特征向量和第一透底图特征向量,获得第一尺寸的第一透底图融合特征向量。

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