[发明专利]一种易粘附易去除光刻胶

权利要求书

1.一种易粘附易去除光刻胶，其特征在于，其原料按重量份包括：成膜树脂15-20份、光致产酸剂5-7份、改性二氧化钛3-4份、硅烷偶联剂1-3份、溶剂70-80份；其中，成膜树脂包括成膜树脂1和成膜树脂2；

成膜树脂1为对羟基苯乙烯和丙烯酸叔丁酯的共聚物，成膜树脂2为聚4-叔丁氧酰氧基苯乙烯，其中，成膜树脂1的重均分子量为6000-8000；成膜树脂2的重均分子量为80000-90000。

2.根据权利要求1所述易粘附易去除光刻胶，其特征在于，成膜树脂1和成膜树脂2的重量比为0.5-0.7:2。

3.根据权利要求1或2所述易粘附易去除光刻胶，其特征在于，在改性二氧化钛的制备过程中，取纳米二氧化钛、羧基化碳纳米管进行水热反应得到反应液，向反应液中加入硅烷偶联剂溶液，进行接枝反应，固液分离得到改性二氧化钛。

4.根据权利要求3所述易粘附易去除光刻胶，其特征在于，在改性二氧化钛的制备过程中，水热反应的温度为140-160℃，时间为3-4h；优选地，在改性二氧化钛的制备过程中，接枝反应的温度为80-100℃，时间为1-2h。

5.根据权利要求3所述易粘附易去除光刻胶，其特征在于，在改性二氧化钛制备过程中，羧基化碳纳米管、二氧化钛的重量比为0.3-0.5:10；优选地，在改性二氧化钛制备过程中，硅烷偶联剂和二氧化钛的重量比为1-2:10。

6.根据权利要求3所述易粘附易去除光刻胶，其特征在于，在改性二氧化钛制备过程中，硅烷偶联剂为γ-氨丙基三乙氧基硅烷。

7.根据权利要求3所述易粘附易去除光刻胶，其特征在于，在改性二氧化钛制备过程中，硅烷偶联剂溶液的质量分数为3-5wt％，其溶剂为乙醇水溶液。

8.根据权利要求3所述易粘附易去除光刻胶，其特征在于，在改性二氧化钛制备过程中，二氧化钛为锐钛矿型二氧化钛。

9.根据权利要求1-8任一项所述易粘附易去除光刻胶，其特征在于，先在半导体的衬底表面蒸汽涂覆六甲基二硅胺烷，然后再涂覆所述光刻胶，其中，蒸汽涂覆的温度为100-120℃，时间为70-80s。

10.根据权利要求1-9任一项所述易粘附易去除光刻胶，其特征在于，光致产酸剂为三苯基锍全氟丁烷磺酸、三苯基锍三氟磺酸中的至少一种。