[发明专利]一种掩膜版倾斜钻孔支架

说明书

本发明属于掩膜版技术领域，尤其是涉及一种掩膜版倾斜钻孔支架，包括底板和多根立柱及多根斜柱，立柱与斜柱一一匹配，多根立柱与底板垂直固定连接，多根斜柱的两端分别与底板和立柱固定连接，斜柱的倾斜角度为度，多根斜柱上设有同一个卡紧机构，底板上还设有用于配合卡紧机构的吸附机构，底板上开设有多个上下贯通的螺纹孔。优点在于：本发明可较为稳定的在掩膜版上开钻出多个45度角的钻孔，同时结构稳定，掩膜版在钻孔时不易发生移动，提高了掩膜版的钻孔的效果和质量。

技术领域

本发明属于掩膜版技术领域，尤其是涉及一种掩膜版倾斜钻孔支架。

背景技术

每个芯片上的实际电路结构是用掩模版和光刻技术制作形成的。掩模版是器件或部分器件的物理表示，掩模版上的不透明部分是用紫外线吸收材料制作的。光敏层即光刻胶被预先喷到半导体表面，掩模和光刻工艺是很关键的，因为他们决定着器件的极限尺寸，除了紫外线，电子束和X射线也能用来对光刻胶进行曝光。

掩模版需要钻与表面呈45°夹角的孔，但目前的五轴数控机床成本昂贵，三轴机床又无法直接加工出45°倾斜孔，于是利用支架使得掩模版与水平面呈45°，实现钻头垂直于水平面就能完成倾斜45°钻孔，现有技术中支架的结构强度不足，在进行钻孔时发生的震动容易造成位移，使得掩模版在支架上发生位移。

为此，我们提出一种掩膜版倾斜钻孔支架来解决上述问题。

发明内容

本发明的目的是针对上述问题，提供一种可钻孔时不易发生移动的掩膜版倾斜钻孔支架。

为达到上述目的，本发明采用了下列技术方案：一种掩膜版倾斜钻孔支架，包括底板和多根立柱及多根斜柱，所述立柱与斜柱一一匹配，多根所述立柱与底板垂直固定连接，多根所述斜柱的两端分别与底板和立柱固定连接，所述斜柱的倾斜角度为度，多根所述斜柱上设有同一个卡紧机构，所述底板上还设有用于配合卡紧机构的吸附机构，所述底板上开设有多个上下贯通的螺纹孔。

在上述的掩膜版倾斜钻孔支架中，所述卡紧机构包括设置于多根斜柱上表面的第一滑槽，所述第一滑槽内滑动连接有与之相匹配的第一滑块，其中一个所述第一滑槽的底部固定连接有驱动电机，所述驱动电机上同轴固定连接有螺纹杆，所述螺纹杆的一端螺纹贯穿第一滑块并与第一滑槽的内壁转动连接，多块所述第一滑块上固定连接有同一根上卡板，多根所述斜柱上还固定连接有同一根下卡板，所述下卡板与上卡板对应设置。

在上述的掩膜版倾斜钻孔支架中，所述下卡板与上卡板的相对侧壁上均设有多排固定针，所述固定针包括内杆和外杆，所述内杆插设于外杆内，所述内杆和外杆之间通过第一弹簧固定连接，多根所述固定针之间的。

在上述的掩膜版倾斜钻孔支架中，所述上卡板的侧壁上设有导引架，所述导引架呈门型，最外侧的两根所述斜柱的侧壁上均设有多个第二滑槽，所述第二滑槽内滑动连接有与之相匹配的第二滑块，所述第二滑块上固定连接有伸缩杆，所述伸缩杆上套设有第二弹簧，所述伸缩杆的一端与第二滑槽的顶面固定连接，多块所述第二滑块上固定连接有同一块边板，所述边板紧贴斜柱的侧边，且其一端倾斜设置，所述边板与导引架活动连接。

在上述的掩膜版倾斜钻孔支架中，所述吸附机构包括设置于底板内的腔室，所述腔室的顶面开设有开口，所述开口内固定连接有拦网，所述腔室的内壁上贯通固定连接有气泵。

在上述的掩膜版倾斜钻孔支架中，所述拦网的网孔直径为1-3mm。

在上述的掩膜版倾斜钻孔支架中，所述斜柱设有与腔室连通的穿槽，所述斜柱的上表面上开设有与穿槽连通的吸附孔。

在上述的掩膜版倾斜钻孔支架中，所述立柱内设有空腔，所述空腔填充有填充液，所述填充液内填充有颗粒块。

与现有的技术相比，本掩膜版倾斜钻孔支架的优点在于：