[发明专利]软磁性合金、软磁性合金薄带及其制造方法、磁芯以及部件在审

专利信息
申请号: 202011541299.3 申请日: 2020-12-23
公开(公告)号: CN113053611A 公开(公告)日: 2021-06-29
发明(设计)人: 小川雄一;伊藤直辉;白武隆弘;太田元基 申请(专利权)人: 日立金属株式会社
主分类号: H01F1/153 分类号: H01F1/153;H01F3/04;H01F27/28
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 陈彦;郭玫
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 磁性 合金 及其 制造 方法 以及 部件
【权利要求书】:

1.一种软磁性合金,其由组成式FeaSibBcCudMe表示,M为选自Nb、Mo、V、Zr、Hf、W中的至少1种元素,按原子%计,82.5≦a≦86、0.3≦b≦3、12.5≦c≦15.0、0.05≦d≦0.9、0≦e<0.4,

所述软磁性合金具有粒径60nm以下的晶粒存在于非晶相中的组织。

2.根据权利要求1所述的软磁性合金,其中,83≦a≦86、0.3≦b≦2、0.4≦d≦0.9、0≦e≦0.3。

3.根据权利要求1或2所述的软磁性合金,其中,13.0≦c≦14.0。

4.根据权利要求1~3中任一项所述的软磁性合金,其中,Fe的一部分在最高达6原子%的范围内被Co、Ni中的至少1种元素置换。

5.根据权利要求1~4中任一项所述的软磁性合金,其中,饱和磁通密度为1.75T以上。

6.根据权利要求1~5中任一项所述的软磁性合金,其中,密度为7.45g/cm3以上。

7.一种软磁性合金薄带,其合金组成由组成式FeaSibBcCudMe表示,M为选自Nb、Mo、V、Zr、Hf、W中的至少1种元素,按原子%计,82.5≦a≦86、0.3≦b≦3、12.5≦c≦15.0、0.05≦d≦0.9、0≦e<0.4,

所述软磁性合金薄带具有粒径60nm以下的晶粒存在于非晶相中的组织,饱和磁通密度为1.75T以上,1kHz、1T时的铁损为25W/kg以下。

8.根据权利要求7所述的软磁性合金薄带,其中,密度为7.45g/cm3以上。

9.根据权利要求7或8所述的软磁性合金薄带,其中,占积率为86%以上。

10.根据权利要求7~9中任一项所述的软磁性合金薄带,其中,厚度为25μm以上。

11.根据权利要求7~10中任一项所述的软磁性合金薄带,其中,占积率为88%以上。

12.根据权利要求7~11中任一项所述的软磁性合金薄带,其中,在所述软磁性合金薄带的铸造方向上施加80A/m的磁场时的磁通密度L、与在与所述软磁性合金薄带的铸造方向正交的方向上施加80A/m的磁场时的磁通密度W的值之比即L/W为0.7~1.3。

13.根据权利要求7~12中任一项所述的软磁性合金薄带,其中,饱和磁致伸缩为20ppm以下。

14.根据权利要求7~13中任一项所述的软磁性合金薄带,其中,83≦a≦86、0.3≦b≦2、0.4≦d≦0.9、0≦e≦0.3,饱和磁通密度为1.77T以上。

15.根据权利要求7~14中任一项所述的软磁性合金薄带,其中,13.0≦c≦14.0。

16.根据权利要求7~15中任一项所述的软磁性合金薄带,其中,Fe的一部分在最高达6原子%的范围内被Co、Ni中的至少1种元素置换。

17.一种软磁性合金薄带的制造方法,其为获得权利要求7~16中任一项所述的软磁性合金薄带的制造方法,具有使合金熔液喷到旋转的冷却辊上,在所述冷却辊上冷却所述合金熔液而获得合金薄带的薄带制造工序,所述冷却辊的外周部由热导率为120W/(m·K)以上的Cu合金构成。

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