[发明专利]自动曝光控制方法及系统有效
申请号: | 202011543514.3 | 申请日: | 2020-12-23 |
公开(公告)号: | CN112738391B | 公开(公告)日: | 2023-04-18 |
发明(设计)人: | 黄翌敏;何承林 | 申请(专利权)人: | 上海奕瑞光电子科技股份有限公司 |
主分类号: | H04N23/61 | 分类号: | H04N23/61;H04N23/73;H04N23/30 |
代理公司: | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人: | 施婷婷 |
地址: | 201201 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 自动 曝光 控制 方法 系统 | ||
1.一种自动曝光控制方法,其特征在于,所述自动曝光控制方法至少包括:
1)打开平板探测器,对所述平板探测器进行参数设置;
2)实时检测曝光起始时刻,曝光开始后对曝光剂量进行检测,若曝光剂量达到第一曝光剂量阈值或曝光时间达到曝光时间阈值,则关闭曝光窗口并采集图像,基于采集到的图像中被拍摄物的位置确定曝光辐照射野;
3)打开曝光窗口后,实时检测整个所述曝光辐照射野内图像的灰度值以得到曝光剂量率,通过对所述曝光剂量率积分获取曝光剂量,并对曝光结束时的曝光剂量进行预测,得到预测曝光剂量,若预测曝光剂量达到第二曝光剂量阈值则所述平板探测器发出闸断控制信号;其中,所述第一曝光剂量阈值小于所述第二曝光剂量阈值;
4)实时检测曝光结束时刻,曝光结束后所述平板探测器触发图像采集。
2.根据权利要求1所述的自动曝光控制方法,其特征在于:基于曝光传感器检测曝光起始时刻;或通过扫描所述平板探测器检测曝光剂量,若曝光剂量大于预设起始值则判定为曝光开始,其中,所述预设起始值不小于零。
3.根据权利要求1所述的自动曝光控制方法,其特征在于:基于曝光传感器检测曝光结束时刻;或扫描所述平板探测器的曝光剂量,若检测到曝光剂量率的增加量小于预设阈值则判定曝光结束,其中,所述预设阈值大于零。
4.根据权利要求1所述的自动曝光控制方法,其特征在于:步骤2)中采用全面板检测模式或者基于预先设定的感兴趣区域采集图像。
5.根据权利要求1所述的自动曝光控制方法,其特征在于:步骤2)中对采集到的图像进行识别,进而根据识别算法和曝光设置策略,自动确定曝光辐照射野。
6.根据权利要求1所述的自动曝光控制方法,其特征在于:基于曝光剂量率及信号传输链路延迟时长预测曝光结束时的曝光剂量,所述曝光剂量率及所述信号传输链路延迟时长与曝光结束时的曝光剂量成正相关关系。
7.根据权利要求1所述的自动曝光控制方法,其特征在于:步骤3)中基于步骤2)检测到的曝光起始时刻开始统计曝光剂量,或基于步骤2)采集图像后开始统计曝光剂量。
8.根据权利要求1所述的自动曝光控制方法,其特征在于:所述自动曝光控制方法还包括:步骤3)中当包括至少两个曝光辐照射野时,基于各曝光辐照射野之间的逻辑关系确定所述平板探测器是否发出闸断控制信号。
9.根据权利要求8所述的自动曝光控制方法,其特征在于:各曝光辐照射野之间的逻辑关系包括逻辑与、逻辑或及加权平均中的至少一种。
10.根据权利要求1所述的自动曝光控制方法,其特征在于:步骤2)替换为实时检测曝光起始时刻,曝光开始后对曝光剂量进行检测对曝光结束时的曝光剂量进行预测,若获得的曝光结束时的曝光剂量达到第一曝光剂量阈值,则结束曝光关闭曝光窗口并采集图像,基于采集到的图像中被拍摄物的位置确定曝光辐照射野。
11.一种自动曝光控制系统,实现如权利要求1~10任意一项所述的自动曝光控制方法,其特征在于,所述自动曝光控制系统至少包括:
平板探测器、高压控制器、高压发生装置及球管;
所述平板探测器包括探测面板、曝光辐照射野计算模块及自动曝光控制模块;所述探测面板对X射线进行检测并转换为电信号;所述曝光辐照射野计算模块连接所述探测面板的输出端,基于所述探测面板采集到的图像中被拍摄物的位置确定曝光辐照射野;所述自动曝光控制模块连接所述探测面板的输出端,基于所述探测面板的输出信号触发闸断控制信号;
所述高压控制器连接于所述平板探测器的输出端,基于所述闸断控制信号关闭所述高压发生装置;
所述球管连接所述高压发生装置,基于所述高压发生装置发出的高压信号产生X射线。
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