[发明专利]自动曝光控制方法及系统有效
申请号: | 202011543514.3 | 申请日: | 2020-12-23 |
公开(公告)号: | CN112738391B | 公开(公告)日: | 2023-04-18 |
发明(设计)人: | 黄翌敏;何承林 | 申请(专利权)人: | 上海奕瑞光电子科技股份有限公司 |
主分类号: | H04N23/61 | 分类号: | H04N23/61;H04N23/73;H04N23/30 |
代理公司: | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人: | 施婷婷 |
地址: | 201201 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 自动 曝光 控制 方法 系统 | ||
本发明提供一种自动曝光控制方法及系统,包括:打开平板探测器并设置参数;实时检测曝光起始时刻,曝光开始后对曝光剂量或者曝光时间进行检测,若曝光剂量达到第一曝光剂量阈值或者曝光时间达到曝光时间阈值,则采集图像,确定曝光辐照射野;打开曝光窗口,所述平板探测器进入自动曝光控制模式并触发闸断控制信号;实时检测曝光结束时刻,曝光结束后平板探测器触发图像采集。本发明实现对曝光辐照射野及曝光剂量的精准控制值,结构简单、成本低、采图周期短、操作复杂度低。
技术领域
本发明涉及平板探测领域,特别是涉及一种自动曝光控制方法及系统。
背景技术
平板探测器是上个世纪开始诞生的X射线影像新型检测技术,以成像速度快、分辨率高等特点著称,广泛应用于医疗检测、无损检测、安检、反恐等领域。在工业检测应用中,传统胶片记录曝光辐照图像,价格昂贵,不易保存,数字平板探测器应用于工业检测已成为未来的发展方向。
近年来,集成化智能自动曝光检测以行业新兴技术的身份面世,在工业检测应用中,由于工件器件尺寸大、对X射线吸收率高等,拍摄工件时需要长时间的曝光积累,才能获取到理想的图像,而且不同工件尺寸、材料等均不相同,曝光辐照射野及曝光剂量均难以控制。
因此,如何准确设置曝光辐照射野、曝光剂量,简化工业检测的曝光操作难度,已成为本领域技术人员亟待解决的问题之一。
发明内容
鉴于以上所述现有技术的缺点,本发明的目的在于提供一种自动曝光控制方法及系统,用于解决现有技术中工业检测中曝光辐照射野、曝光剂量难以控制的问题。
为实现上述目的及其他相关目的,本发明提供一种自动曝光控制方法,所述自动曝光控制方法至少包括:
1)打开平板探测器,对所述平板探测器进行参数设置;
2)实时检测曝光起始时刻,曝光开始后对曝光剂量进行检测,若曝光剂量达到第一曝光剂量阈值或曝光时间达到曝光时间阈值,则关闭曝光窗口并采集图像,基于采集到的图像中被拍摄物的位置确定曝光辐照射野;
3)打开曝光窗口,所述平板探测器进入自动曝光控制模式并触发闸断控制信号;
4)实时检测曝光结束时刻,曝光结束后所述平板探测器触发图像采集。
可选地,基于曝光传感器检测曝光起始时刻;或通过扫描所述平板探测器检测曝光剂量,若曝光剂量大于预设起始值则判定曝光开始,其中,所述预设起始值不小于零。
可选地,基于曝光传感器检测曝光结束时刻;或扫描所述平板探测器的曝光剂量,若检测到曝光剂量率小于预设阈值则判定曝光结束来,其中,所述预设阈值大于零。
可选地,步骤2)中采用全面板检测模式,或者基于预先设定的感兴趣区域采集图像。
可选地,步骤2)中对采集到的图像进行识别,进而根据识别算法和曝光设置策略,自动确定曝光辐照射野。
可选地,步骤3)中打开曝光窗口后检测所述曝光辐照射野的曝光剂量率并对曝光剂量进行实时检测,若实时曝光剂量达到第二曝光剂量阈值则所述平板探测器发出闸断控制信号;其中,所述第一曝光剂量阈值小于所述第二曝光剂量阈值。
可选地,步骤3)中打开曝光窗口后实时检测所述曝光辐照射野的曝光剂量率并对曝光结束时的曝光剂量进行预测,得到预测曝光剂量,若预测曝光剂量到第二曝光剂量阈值则所述平板探测器发出闸断控制信号;其中,所述第一曝光剂量阈值小于所述第二曝光剂量阈值。
更可选地,基于曝光剂量率及信号传输链路延迟时长预测曝光结束时的曝光剂量,所述曝光剂量率及所述信号传输链路延迟时长与曝光结束时的曝光剂量成正相关关系。
更可选地,步骤3)中基于步骤2)检测到的曝光起始时刻开始统计曝光剂量,或基于步骤2)采集图像后开始统计曝光剂量。
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