[发明专利]一种镁掺杂氧化锌磁控溅射靶材及其制备方法

权利要求书

1.一种镁掺杂氧化锌磁控溅射靶材的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

(1)向氧化锌粉体中掺杂氧化镁粉体和第三氧化物粉体，混合后与乙醇溶液混合形成浆料；

(2)将浆料球磨后干燥，过筛，得到成型用粉体；

(3)将步骤(2)得到的粉体冷等静压形成坯体；

(4)将坯体在电炉中慢速升温至900～1150℃，保温30～90min，再快速升温至烧结温度1300～1450℃，保温120～480min，慢速降温形成半成品；经切割、打磨，得到所述镁掺杂氧化锌磁控溅射靶材。

2.根据权利要求1所述的镁掺杂氧化锌磁控溅射靶材的制备方法，其特征在于，所述氧化镁粉体的掺杂质量百分比为5～40％，第三氧化物粉体的掺杂质量百分比为1～10％。

3.根据权利要求1或2所述的镁掺杂氧化锌磁控溅射靶材的制备方法，其特征在于，所述第三氧化物粉体包括氧化钛、氧化铝、氧化镓、氧化铟、氧化铈、氧化钇、氧化锡、氧化钨、氧化钼中任一种或多种。

4.根据权利要求3所述的镁掺杂氧化锌磁控溅射靶材的制备方法，其特征在于，所述第三氧化物粉体的粒径为100～600nm，纯度不低于99.9％。

5.根据权利要求1所述的镁掺杂氧化锌磁控溅射靶材的制备方法，其特征在于，所述氧化锌粉体的粒径为200～500nm，纯度不低于99.9％；所述氧化镁粉体的粒径为10～200nm，纯度不低于99.9％。

6.根据权利要求1所述的镁掺杂氧化锌磁控溅射靶材的制备方法，其特征在于，步骤(1)中，乙醇溶液与粉体混合物的质量比为2～5:1。

7.根据权利要求1所述的镁掺杂氧化锌磁控溅射靶材的制备方法，其特征在于，步骤(2)中，球磨时间为8～24h，磨球与物料的质量比为4～6:1；粉体过筛采用的是60～100目的筛。

8.根据权利要求1所述的镁掺杂氧化锌磁控溅射靶材的制备方法，其特征在于，步骤(3)中，冷等静压的压力为100～200MPa，静压时间为10～40s。

9.根据权利要求1～8任一项所述的制备方法得到的镁掺杂氧化锌磁控溅射靶材，其特征在于，分子式表达为：xMgO·(1-x-y)ZnO·yMO，其中x＝0.05～0.4，y＝0.01～0.1，n＝1.5～3；MO指第三氧化物。

10.根据权利要求9所述的镁掺杂氧化锌磁控溅射靶材，其特征在于，所述镁掺杂氧化锌磁控溅射靶材的相对密度大于95％；电阻率低于4×10^-2Ω·cm。