[发明专利]基板处理装置、方法、系统以及学习用数据的生成方法

权利要求书

1.一种基板处理装置，将处理液供给至基板以对所述基板执行处理，所述基板处理装置包括：

喷嘴，对所述基板供给所述处理液；

移动机构，使所述喷嘴及所述基板中的至少一者移动；

存储部，存储学习完毕模型；以及

控制部，使用所述学习完毕模型来控制所述移动机构，

所述学习完毕模型是通过将学习对象速度信息与处理量作为学习用数据进行学习而生成，所述学习对象速度信息表示所述喷嘴的移动速度及学习对象基板的移动速度中的至少一者、或者表示所述喷嘴与所述学习对象基板的相对移动速度，所述处理量是以基于所述学习对象速度信息的速度来使所述喷嘴及所述学习对象基板中的至少一者移动并对所述学习对象基板执行所述处理而获取，

所述处理量表示通过所述处理来对所述基板进行处理的量，

所述控制部将所述处理量的目标量输入至所述学习完毕模型，由此，从所述学习完毕模型输出处理时速度信息，

所述控制部在对处理对象基板执行所述处理时，控制所述移动机构，以使所述喷嘴及所述处理对象基板中的至少一者以基于所述处理时速度信息的速度而移动，

所述处理时速度信息表示所述喷嘴的移动速度及所述处理对象基板的移动速度中的至少一者、或者表示所述喷嘴与所述处理对象基板的相对移动速度。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中

所述学习对象速度信息表示针对将所述喷嘴移动的移动区间分割为多个区间的各喷嘴位置的每个位置而设定的所述喷嘴的移动速度、及针对将所述学习对象基板移动的移动区间分割为多个区间的各基板位置的每个位置而设定的所述学习对象基板的移动速度中的至少一者，或者

所述学习对象速度信息表示针对所述各喷嘴位置的每个位置或所述各基板位置的每个位置的、所述喷嘴与所述学习对象基板的相对移动速度，

所述处理时速度信息表示针对所述各喷嘴位置的每个位置而设定的所述喷嘴的移动速度、及针对所述各基板位置的每个位置而设定的所述处理对象基板的移动速度中的至少一者，或者

所述处理时速度信息表示针对所述各喷嘴位置的每个位置或所述各基板位置的每个位置的、所述喷嘴与所述处理对象基板的相对移动速度。

3.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，还包括：

基板保持部，水平地保持所述基板；以及

基板旋转部，以沿上下方向延伸的中心轴为中心而使所述基板与所述基板保持部一体地旋转，

所述相对移动速度表示旋转的所述基板的表面与所述喷嘴的相对移动速度。

4.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其中

所述控制部将所述处理时速度信息与所述处理量作为用于追加学习的学习用数据进行学习，从而生成追加学习后的学习完毕模型，所述处理量是以基于所述处理时速度信息的速度来使所述喷嘴及所述处理对象基板中的至少一者移动并对所述处理对象基板执行所述处理而获取。

5.根据权利要求4所述的基板处理装置，其中

所述控制部判定所述处理量能否利用于所述追加学习。

6.根据权利要求5所述的基板处理装置，还包括：

测量器，对测量对象的值进行测量，

所述存储部存储用于控制所述处理的执行的配方，

所述配方表示对所述测量对象的设定值，

所述控制部在所述测量对象的值与所述设定值的差值为规定值以上的情况下，根据所述处理量能否利用于所述追加学习来执行不同的错误告知。

7.根据权利要求1、2、5及6中任一项所述的基板处理装置，还包括：

处理量检测部，用于检测所述处理量。