[发明专利]一种条纹结构光的参数确定方法、装置、设备及存储介质在审
申请号: | 202011564167.2 | 申请日: | 2020-12-25 |
公开(公告)号: | CN112530008A | 公开(公告)日: | 2021-03-19 |
发明(设计)人: | 王衍田;程诚;汪浩源;陈家彬;刘欣;王旭光 | 申请(专利权)人: | 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 |
主分类号: | G06T17/00 | 分类号: | G06T17/00;G06T15/50 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 孟金喆 |
地址: | 215123 江苏省苏州市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 条纹 结构 参数 确定 方法 装置 设备 存储 介质 | ||
1.一种条纹结构光的参数确定方法,其特征在于,包括:
获取目标物体的标准视差图;
在检测到随机条纹结构光投射至目标物体时,获取目标物体的第一视差图;
根据所述第一视差图和标准视差图生成的目标函数调整所述随机条纹结构光的参数,直至所述目标函数收敛,得到目标条纹结构光对应的参数。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,还包括:
向投影仪发送第一开启指令,其中,所述第一开启指令携带目标条纹结构光的参数,以使所述投影仪根据目标条纹结构光的参数将目标条纹结构光投射到被测物体上得到目标视差图;
根据所述目标视差图确定所述被测物体的三维点云。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,根据所述第一视差图和标准视差图生成的目标函数调整所述随机条纹结构光的参数,包括:
根据所述第一视差图和标准视差图生成目标函数;
基于梯度下降算法和所述目标函数调整所述随机条纹结构光的参数。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述目标函数为:
err(d,g)[j]=|d[j]-g[j]|;
其中,‖·‖1为L1范数,Θ为样本集合所包含的行索引,t为样本,T为样本数,softmax为归一化指数函数,τ为温度系数,index为索引向量,0为零向量;d为第一视差图,g为目标视差图,j为视差图像素点纵坐标。
5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述在检测到随机条纹结构光投射至目标物体时,获取目标物体的第一视差图,包括:
获取匹配算法的窗口参数;
向投影仪发送第二开启指令,所述第二开启指令携带所述随机条纹结构光的参数,以使所述投影仪基于所述随机条纹结构光的参数将随机条纹结构光投射到所述目标物体上;
获取左侧相机拍摄的所述目标物体的第一图像和右侧相机拍摄的所述目标物体的第二图像;
根据所述第一图像、第二图像和匹配算法的窗口参数确定第一视差图。
6.一种条纹结构光的参数确定装置,其特征在于,包括:
第一获取模块,用于获取目标物体的标准视差图;
第二获取模块,用于在检测到随机条纹结构光投射至目标物体时,获取目标物体的第一视差图;
参数调整模块,用于根据所述第一视差图和标准视差图生成的目标函数调整所述随机条纹结构光的参数,直至所述目标函数收敛,得到目标条纹结构光对应的参数。
7.根据权利要求6所述的装置,其特征在于,还包括:
指令发送模块,用于向投影仪发送第一开启指令,其中,所述第一开启指令携带目标条纹结构光的参数,以使所述投影仪根据目标条纹结构光的参数将目标条纹结构光投射到被测物体上得到目标视差图;
确定模块,用于根据所述目标视差图确定所述被测物体的三维点云。
8.根据权利要求6所述的装置,其特征在于,所述参数调整模块,包括:
目标函数生成单元,用于根据所述第一视差图和标准视差图生成目标函数;
调整单元,用于基于梯度下降算法和所述目标函数调整所述随机条纹结构光的参数。
9.一种计算机设备,包括存储器、处理器及存储在存储器上并可在处理器上运行的计算机程序,其特征在于,所述处理器执行所述程序时实现如权利要求1-5中任一所述的条纹结构光的参数确定方法。
10.一种计算机可读存储介质,其上存储有计算机程序,其特征在于,该程序被处理器执行时实现如权利要求1-5中任一所述的条纹结构光的参数确定方法。
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