[发明专利]光调节柔性天线及其制作方法

权利要求书

1.一种光调节柔性天线，其特征在于：包括柔性基体层和线路层，所述线路层设置于所述柔性基体层上，所述柔性基体层包括光敏感材料，所述柔性基体层的介电性能根据照射光线的特性发生改变。

2.根据权利要求1所述的光调节柔性天线，其特征在于：所述柔性基体层呈透明状，所述光敏感材料为颗粒状光敏感材料，所述颗粒状光敏感材料分散设置于所述柔性基体层内。

3.根据权利要求1所述的光调节柔性天线，其特征在于：所述柔性基体层包括由所述光敏感材料制成的光敏感材料层及透明介电层，所述透明介电层设置于所述光敏感材料层的两侧，并将所述光敏感材料层包覆于内。

4.根据权利要求1所述的光调节柔性天线，其特征在于：所述线路层布设于所述柔性基体层一侧的表面上。

5.根据权利要求1所述的光调节柔性天线，其特征在于：所述线路层分别设置于所述柔性基体层的两个相对的表面上，至少在所述柔性基体层的一个表面上，所述线路层呈透明状。

6.根据权利要求1所述的光调节柔性天线，其特征在于：所述光调节柔性天线包括光源模块及控制单元，所述光源模块与所述控制单元电性相连，所述控制单元对所述光源模块的光照强度进行控制，所述光源模块发出的光线照射于所述柔性基体层内的所述光敏感材料上。

7.根据权利要求6所述的光调节柔性天线，其特征在于：所述光调节柔性天线包括对所述柔性基体层的弯曲形态进行检测的弯曲形态检测模块，所述弯曲形态检测模块与所述控制单元电性相连，并将所述柔性基体层的弯曲形态信息传递至所述控制单元，所述控制单元根据所述柔性基体层的弯曲形态，对所述光源模块的光照强度进行控制。

8.根据权利要求1所述的光调节柔性天线，其特征在于：所述光敏感材料为VO₂、MoO₃或TiO₂。

9.一种光调节柔性天线的制作方法，其特征在于：该方法包括：

S1：提供一柔性基体层，在所述柔性基体层内设置有光敏感材料；

S2：在所述柔性基体层上形成线路层。

10.根据权利要求9所述的光调节柔性天线的制作方法，其特征在于：在所述S1步骤中，所述光敏感材料可以为颗粒状光敏感材料，所述颗粒状光敏感材料分散设置于所述柔性基体层内，所述提供一柔性基体层包括：

S11：将所述颗粒状光敏感材料分散于多巴胺溶液内，并与所述多巴胺溶液进行表面枝接反应，以及制备柔性基体层材料的溶液；

S12：将所述颗粒状光敏感材料的多巴胺溶液与所述柔性基体层材料的溶液进行混合，得到混合溶液，并对所述混合溶液进行固化成型。