[发明专利]光调节柔性天线及其制作方法

说明书

光调节柔性天线及其制作方法，该光调节柔性天线包括柔性基体层、线路层及光敏感材料，所述线路层设置于所述柔性基体层上，所述光敏感材料设置于所述柔性基体层内，所述柔性基体层的介电性能根据照射光线的特性发生改变。该光调节柔性天线能够通过光线的照射调节柔性天线的电学性能参数进行改变。

技术领域

本发明涉及柔性天线技术领域，尤其是一种光调节柔性天线及其制作方法。

背景技术

柔性天线具有轻、薄、柔、易于共形的特点而得到广泛研究。柔性天线的工作主频、阻抗匹配等电学性能参数受到天线电学尺寸和形状影响。当柔性天线定型后，其各项性能参数均已经确定，很少能够进行更改。这不利于柔性天线性能的扩展。

在现有技术中，一般会通过使用介电可调的介质基板，通过电压调节介质基板的介电常数，使得柔性天线的各项电学性能参数发生改变。但该方式较为繁琐。

进一步地，在柔性天线工作时，会在一些情况下产生弯曲，而在柔性天线弯曲时，由于弯曲应变导致柔性天线的尺寸发生改变，以及弯曲变形造成柔性天线的形状发生改变，其介电基板的介电性能，如介电常数和介电损耗，会与平面状态时会有巨大的差异，一旦柔性天线弯曲至一定程度，其就无法在设计的工作频率下正常工作，无法获得好的阻抗匹配，且驻波也会比较大，影响天线的工作效率。

发明内容

有鉴于此，本发明提供了一种光调节柔性天线及其制作方法，该光调节柔性天线能够通过光线的照射调节柔性天线的电学性能参数进行改变。

本发明提供了一种光调节柔性天线，包括柔性基体层、线路层及光敏感材料，所述线路层设置于所述柔性基体层上，所述光敏感材料设置于所述柔性基体层内，所述柔性基体层的介电性能根据照射光线的特性发生改变。

进一步地，所述柔性基体层呈透明状，所述光敏感材料为颗粒状光敏感材料，所述颗粒状光敏感材料分散设置于所述柔性基体层内。

进一步地，所述柔性基体层包括由所述光敏感材料制成的光敏感材料层及透明介电层，所述透明介电层设置于所述光敏感材料层的两侧，并将所述光敏感材料层包覆于内。

进一步地，所述线路层布设于所述柔性基体层一侧的表面上。

进一步地，所述线路层分别设置于所述柔性基体层的两个相对的表面上，至少在所述柔性基体层的一个表面上，所述线路层呈透明状。

进一步地，所述光调节柔性天线包括光源模块及控制单元，所述光源模块与所述控制单元电性相连，所述控制单元对所述光源模块的光照强度进行控制，所述光源模块发出的光线照射于所述柔性基体层内的所述光敏感材料上。

进一步地，所述光调节柔性天线包括对所述柔性基体层的弯曲形态进行检测的弯曲形态检测模块，所述弯曲形态检测模块与所述控制单元电性相连，并将所述柔性基体层的弯曲形态信息传递至所述控制单元，所述控制单元根据所述柔性基体层的弯曲形态，对所述光源模块的光照强度进行控制。

进一步地，所述光敏感材料为VO₂、MoO₃或TiO₂。

本发明还提供了一种光调节柔性天线的制作方法，该方法包括如下步骤：

S1：提供一柔性基体层，在所述柔性基体层内设置有光敏感材料；

S2：在所述柔性基体层上形成线路层。

进一步地，在进行S12步骤之前，该方法还包括在所述工作电极上形成电子传导层，然后在将所述枝状金纳米颗粒层设置于所述电子传导层上。

进一步地，在所述S1步骤中，所述光敏感材料可以为颗粒状光敏感材料，所述颗粒状光敏感材料分散设置于所述柔性基体层内，在形成所述柔性基体层时，该方法包括：