[发明专利]一种氮化镓半导体生产用的洁净厂房

权利要求书

1.一种氮化镓半导体生产用的洁净厂房，包括厂房主体(1)、净化空调系统(2)、更衣室(3)、净化箱(7)、毛刷(16)和第二过滤网(26)，其特征在于：所述厂房主体(1)内部的底端安装有净化空调系统(2)，所述厂房主体(1)一端的侧壁安装有更衣室(3)，所述更衣室(3)的顶端安装有底座(6)，且底座(6)的顶端安装有净化箱(7)，所述净化箱(7)的一端侧壁安装有进气管(8)，且进气管(8)远离净化箱(7)的一端与更衣室(3)的顶端相连接，所述净化箱(7)远离进气管(8)的一端侧壁安装有排气管(9)，且排气管(9)远离进气管(8)的一端与更衣室(3)的顶端相连接，所述排气管(9)内部的顶端安装有第一过滤网(12)，所述排气管(9)内部的顶端安装有第二进气扇(11)，且第二进气扇(11)位于第一过滤网(12)的下方，所述进气管(8)内部远离净化箱(7)的一端安装有第一进气扇(10)，所述净化箱(7)内部的四角处皆安装有固定块(17)，所述净化箱(7)内部的顶端和底端皆安装有固定板(18)，且固定板(18)一端的侧壁皆开设有凹槽(19)，所述凹槽(19)内部一端的侧壁安装有滑轨(20)，且滑轨(20)的内部设置有滑块(21)，所述滑块(21)的顶端安装有弹簧(22)，且弹簧(22)的顶端与凹槽(19)内部的顶端相连接；

所述滑块(21)的一端侧壁铰接有铰接杆(23)，且铰接杆(23)远离滑块(21)的一端铰接有挤压板(24)，所述挤压板(24)一端的侧壁安装有保护垫(25)，所述保护垫(25)一端的侧壁设置有第二过滤网(26)，且第二过滤网(26)位于固定块(17)和保护垫(25)之间。

2.根据权利要求1所述的一种氮化镓半导体生产用的洁净厂房，其特征在于：所述厂房主体(1)和更衣室(3)相互靠近的一端开设有过道(4)，且过道(4)的内部安装有开关门(5)。

3.根据权利要求1所述的一种氮化镓半导体生产用的洁净厂房，其特征在于：所述更衣室(3)一侧的侧壁开设有门框(27)，且门框(27)一端的侧壁铰接有门板(29)，所述门板(29)一侧的侧壁安装有密封块(30)，所述门框(27)一侧的侧壁开设有密封槽(28)，且密封槽(28)与密封块(30)相互卡和。

4.根据权利要求1所述的一种氮化镓半导体生产用的洁净厂房，其特征在于：所述净化箱(7)一侧的侧壁铰接有铰接门(31)，且铰接门(31)一侧的侧壁安装有把手。

5.根据权利要求1所述的一种氮化镓半导体生产用的洁净厂房，其特征在于：所述第二进气扇(11)的内部设置有贯穿第一过滤网(12)的转杆(13)，且转杆(13)的顶端安装有套筒(14)，所述套筒(14)的外壁等间距安装有刮板(15)，且刮板(15)的底端安装有毛刷(16)，所述毛刷(16)的底端与第一过滤网(12)的顶端相贴合。