[发明专利]提高LPCVD部品洗净能力的清洗机结构及其清洗方法

权利要求书

1.一种提高LPCVD部品洗净能力的清洗机结构，其特征在于：包括清洗槽（9），所述的清洗槽（9）上方设有上支架（1），所述的上支架（1）上端设有气液总管（4），所述的气液总管（4）与炉芯管（7）间设有若干气液喷头（6），所述的气液喷头（6）与气液总管（4）间设有分流管（5）；所述的上支架（1）与气液总管（4）间设有横移气缸（2），所述的横移气缸（2）与上支架（1）间设有与横移气缸（2）通过活动式插嵌连接的导轨（3）；所述的清洗槽（9）下部设有与清洗槽（9）呈一体化焊接的清洗槽底板（21），所述的清洗槽（9）内设有炉芯管（7），所述的炉芯管（7）一侧设有左顶气缸（27），所述的左顶气缸（27）与炉芯管（7）间设有与炉芯管（7）通过活动式压接的外凸圆弧顶块（24），所述的左顶气缸（27）与清洗槽（9）间设有与左顶气缸（27）通过插嵌式连接固定的轴承座（26），所述的炉芯管（7）另一侧设有与清洗槽（9）通过轴承式密封套接的右顶气缸（10），所述的右顶气缸（10）与炉芯管（7）间设有与炉芯管（7）通过活动式压接的内凹圆弧顶块（8），所述的清洗槽（9）外侧设有与右顶气缸（10）通过平键式插嵌连接的旋转电机（11）；所述的炉芯管（7）与清洗槽底板（21）间设有升降气缸架（12），所述的升降气缸架（12）与炉芯管（7）间设有右升降气缸（13）和左升降气缸（14），所述的右升降气缸（13）与炉芯管（7）间、左升降气缸（14）与炉芯管（7）间均设有托板（23），所述的清洗槽底板（21）下端设有与清洗槽底板（21）通过连通的排液管（17），所述的排液管（17）下端设有与排液管（17）通过连通的集液箱（19），所述的集液箱（19）与清洗槽（9）间设有注液管（22），所述的注液管（22）上设有与注液管（22）通过管路连通的循环泵（25）；所述的排液管（17）上设有与排液管（17）通过管路连通的总阀（20），所述的总阀（20）与集液箱（19）间设有与排液管（17）通过连通的排液阀（18），所述的排液阀（18）与总阀（20）间设有与排液管（17）通过连通的排水管（16），所述的排水管（16）上设有与排水管（16）通过管路连通的排水阀（15）；

应用提高LPCVD部品洗净能力的清洗机结构的清洗方法，包括如下操作步骤：

第一步：先将炉芯管（7）放置到右升降气缸（13）和左升降气缸（14）上的托板（23）上，接着右升降气缸（13）和左升降气缸（14）同步带动炉芯管（7）下降至右顶气缸（10）、左顶气缸（27）同轴心位置，然后右顶气缸（10）推动内凹圆弧顶块（8），左顶气缸（27）推动外凸圆弧顶块（24），实现对炉芯管（7）的夹紧过程；

第二步：右升降气缸（13）和左升降气缸（14）再下降使得托板（23）脱离炉芯管（7），此时总阀（20）关闭，循环泵（25）开启，使得集液箱（19）内的酸洗药液通过注液管（22）进入清洗槽（9），直至药液量刚好浸没炉芯管（7），接着开启旋转电机（11）对炉芯管（7）进行酸洗过程，酸洗时间为0.1h～6h；

第三步：当酸洗完成后，旋转电机（11）停止转动，右顶气缸（10）和左顶气缸（27）收缩松开，接着右升降气缸（13）上升一段距离，左升降气缸（14）保持静止，然后开启排液阀（18）和总阀（20），排水阀（15）关闭状态，此时酸洗药液通过排液管（17）进入集液箱（19）；

第四步：当药液排干净后，排液阀（18）呈关闭状态，排水阀（15）、总阀（20）呈开启状态，循环泵（25）不启动，此时右升降气缸（13）下降，左升降气缸（14）上升，使得左升降气缸（14）处的炉芯管（7）高于右升降气缸（13）处的炉芯管（7），接着往炉芯管（7）内进行纯水溢流过程，通过纯水洗干净炉芯管（7）内的药液；

第五步：纯水溢流后，右升降气缸（13）、左升降气缸（14）上升至同一平行高度，接着气液总管（4）进纯水，通过分流管（5）由气液喷头（6）对炉芯管（7）外壁进行喷淋，同时右顶气缸（10）推动内凹圆弧顶块（8），左顶气缸（27）推动外凸圆弧顶块（24），实现对炉芯管（7）的夹紧，接着开启旋转电机（11）对炉芯管（7）进行转动清洗；

第六步：完成纯水喷淋后，右升降气缸（13）保持静止，左升降气缸（14）下降，使得炉芯管（7）底部竖直高度低于炉芯管（7）顶部竖直高度，接着气液总管（4）进氮气，通过分流管（5）由气液喷头（6）对炉芯管（7）进行氮气干燥，氮气干燥时间为1.0h～24.0h。