[发明专利]应用于管式PECVD沉积设备的处理方法

说明书

本发明提供了一种应用于管式PECVD沉积设备的处理方法，包括：通过翻转驱动装置驱动管式沉积腔体内的载具进行翻转运动，通过沉积控制装置使基板的两个待镀表面形成减反射膜，以及通过设置于管式清洗腔体的清洗控制装置对进入所述管式清洗腔体的载具进行气相清洗处理。本发明通过所述翻转运动使得所述载具无需多次进出所述管式沉积腔体内部就能够实现双面镀减反射膜，提高了生产效率；通过设置于所述管式清洗腔体的清洗控制装置对进入所述管式清洗腔体的载具进行所述气相清洗处理，无需拆装所述载具，从而进一步提高了生产效率。

技术领域

本发明涉及晶硅太阳能电池制造技术领域，尤其涉及应用于管式PECVD沉积设备的处理方法。

背景技术

太阳能电池制造工艺中，利用等离子体增强化学气相沉积(Plasma EnhancedChemical Vapor Deposition，PECVD)法在晶硅表面形成减反射膜，能够通过减少光线的反射率来提高光能利用率，同时减反射膜还能够起到钝化效果并为电池提供长期的保护，从而有利于光电转化效率的提升。因此，高质量的氮化硅薄膜对提高晶硅太阳能电池的性能和质量都起到了至关重要的作用。

现有技术中通常将能够放置几十甚至上百硅片的石墨舟送入石英管中，通过在石英管内激发等离子体进行PECVD沉积。由于石墨舟绝大部分表面也暴露在反应环境中，减反射膜沉积不仅在硅片表面进行，也在石墨舟的暴露表面进行，石墨舟表面的沉积层容易对硅片表面造成污染。因此，需要定期对石墨舟进行维护。

现有技术中通常采用化学法对PECVD工艺的相关器件进行清洗维护。例如公开号为CN105742159A的中国专利申请公开了通过混酸和纯水清除光伏相关器件，例如石墨舟和石英管表面污染的方法。然而这种清洗方法属于离线清洗，需要将石英管或石墨舟浸泡于酸液或水中，涉及到远程运输、石英管的拆装过程和繁杂的清洗工艺，不利于生产效率的提高。

因此，有必要开发一种新型的应用于管式PECVD沉积设备的处理方法以解决现有技术存在的上述问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种应用于管式PECVD沉积设备的处理方法，以对载具进行在线清洗，并有利于提高生产效率。

为实现上述目的，本发明的所述管式PECVD沉积设备包括传输装置、翻转驱动装置、设置有沉积控制装置的管式沉积腔体以及设置有清洗控制装置的管式清洗腔体；

通过所述传输设备带动载具进出所述管式沉积腔体或所述管式清洗腔体，所述载具为待清洗载具或装载有基板的载具；

通过所述翻转驱动装置驱动所述装载有基板的载具进行翻转运动以使所述基板相对的两个待镀表面的任意一个处于待镀状态；

通过所述沉积控制装置在所述基板相对的两个待镀表面形成减反射膜，以完成沉积处理；

通过所述清洗控制装置对所述待清洗载具进行气相清洗处理。

本发明的应用于管式PECVD沉积设备的处理方法的有益效果在于：通过所述翻转驱动装置驱动所述载具进行翻转运动以使所述基板的两个相对的待镀表面的任意一个处于待镀状态，使得所述载具无需多次进出所述管式沉积腔体内部就能通过所述沉积处理使所述基板的两个相对的待镀表面形成减反射膜，简化了工艺流程，提高了生产效率；通过所述清洗控制装置在所述管式清洗腔体内对所述待清洗载具进行气相清洗处理，无需拆装所述待清洗载具，从而进一步提高了生产效率。

优选的，所述气相清洗处理包括化学气相清洗处理和等离子体化学气相清洗处理的任意一种。其有益效果在于：无需拆装所述待清洗载具，从而进一步提高了生产效率。

进一步优选的，通过所述清洗控制装置控制所述管式清洗腔体内的温度和压力，以及向所述管式清洗腔体通入的清洗气体的流量，以进行所述化学气相清洗处理。