[发明专利]一种自动监控等离子清洗系统

权利要求书

1.一种自动监控等离子清洗系统，其特征在于，包括：

等离子清洗装置（100），用于对材料表面进行去污处理；

料盒（200），用于放置待清洗的LED支架；

湿敏电阻（300），设于所述料盒（200）上；

输出检测装置（400），用于监测所述湿敏电阻（300）的阻值变化,所述输出检测装置（400）设于后续加工设备上并与后续加工设备电性连接；

阻抗转换装置（500），电性连接于所述湿敏电阻（300）与所述输出检测装置（400）之间进行阻抗转换；

连锁装置（600），用于根据所述输出检测装置（400）对所述湿敏电阻（300）的阻值判断进行对后续加工设备供电或断电，所述连锁装置（600）电性连接于所述输出检测装置（400）与后续加工设备之间;

其中，所述等离子清洗装置包括：

清洗室（110），包括正极放电部（111）和负极放电部（112）；

真空泵（120），与所述清洗室（110）连接；

储气罐（130），用于储存工艺气体，所述储气罐（130）与所述清洗室（110）连接；

射频电源（140），包括正极接头（141）和负极接头（142），所述正极接头（141）与所述正极放电部（111）电性连接，所述负极接头（142）与所述负极放电部（112）电性连接。

2.根据权利要求1所述的一种自动监控等离子清洗系统，其特征在于，所述清洗室（110）内设有真空度传感器，所述清洗室（110）外壁上设有真空度显示屏，所述真空度传感器与所述真空度显示屏电性连接。

3.根据权利要求1所述的一种自动监控等离子清洗系统，其特征在于，所述清洗室（110）包括多个正极放电部（111）和多个负极放电部（112），多个所述正极放电部（111）与多个所述负极放电部（112）交叉设置，每个所述正极放电部（111）与其相邻的每个所述负极放电部（112）之间设有用于放置所述料盒（200）的容纳腔。

4.根据权利要求1所述的一种自动监控等离子清洗系统，其特征在于，所述料盒（200）上设有用于罩住所述湿敏电阻（300）的保护罩。

5.根据权利要求4所述的一种自动监控等离子清洗系统，其特征在于，所述保护罩顶部开口设置。

6.根据权利要求4所述的一种自动监控等离子清洗系统，其特征在于，所述保护罩上设有若干通孔。

7.根据权利要求1所述的一种自动监控等离子清洗系统，还包括报警装置，所述报警装置与所述输出检测装置（400）电性连接。