[发明专利]一种用于检测T-2毒素残留的检测系统及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种用于检测T-2毒素残留的检测系统，其特征在于，包括二维片状金属有机骨架和双末端标记荧光素的适配体，所述二维片状金属有机骨架为铜基-金属有机骨架，其作为猝灭剂，所述双末端标记荧光素的适配体作为信号探针和识别平台；

所述铜基-金属有机骨架由二硫代草酰胺、硫酸铜形成；所述双末端标记荧光素的适配体为5’-FAM- GTA TAT CAA GCA TCG CGT GTT TAC ACA TGC GAG AGG TGA A-FAM-3’。

2.一种权利要求1所述的用于检测T-2毒素残留的检测系统的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

（1）将二硫代草酰胺、硫酸铜在乙醇溶液中反应，得到铜基-金属有机骨架；

（2）将双末端标记荧光素的适配体溶于Tris-HCl 缓冲液中得到适配体溶液，与步骤（1）得到的得到铜基-金属有机骨架组成检测系统。

3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，步骤（1）所述反应为室温下搅拌反应30-40 min，洗涤纯化后真空干燥后得到的粉末为二维片状材料。

4.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，步骤（1）所述二硫代草酰胺、硫酸铜在乙醇溶液中反应为在二硫代草酰胺的乙醇溶液中加入硫酸铜水溶液，二硫代草酰胺乙醇溶液中二硫代草酰胺的质量体积分数为4-5%g/mL，硫酸铜水溶液中硫酸铜浓度为1-2 g/mL。

5.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，步骤（2）所述适配体溶液的浓度为12.5-60 nM。

6.一种权利要求1所述的用于检测T-2毒素残留的检测系统在定量检测对T-2毒素浓度中的应用。

7.根据权利要求6所述的应用，其特征在于，所述应用的具体过程为向双末端标记的荧光适配体溶液加入T-2毒素溶液，低温孵育，随后加入铜基-金属有机骨架水溶液，再孵育，最终将所得溶液在离心取上清测定荧光强度。