[发明专利]自加热效应参数的提取装置以及提取方法在审
申请号: | 202011599983.7 | 申请日: | 2020-12-29 |
公开(公告)号: | CN112736076A | 公开(公告)日: | 2021-04-30 |
发明(设计)人: | 陈静;葛浩;吕迎欢;谢甜甜;王青 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所;上海华力微电子有限公司 |
主分类号: | H01L27/02 | 分类号: | H01L27/02;G06F30/367 |
代理公司: | 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 | 代理人: | 孙佳胤 |
地址: | 200050 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 加热 效应 参数 提取 装置 以及 方法 | ||
本发明提供了一种自加热效应参数的提取装置以及提取方法。所述装置包括一环形振荡器,所述环形振荡器包括;多个反相器,通过电阻彼此串接,所述反相器背栅或体区引出作为偏置端口;每个反相器的输出端与地之间连接一电容,用以增加时间延时。本发明利用环形振荡器进行自加热效应提取,测试误差小,且便于进行数值提取。
技术领域
本发明涉及集成电路设计领域,尤其涉及一种自加热效应参数的提取装置以及提取方法。
背景技术
随着集成电路的工艺迭代,片上工艺晶体管集成度越来越高,但集成电路功耗却不能满足对应比例的缩减,因此导致集成电路比较严重的功率耗散问题,即所谓的“功耗墙”。
随着集成电路走向深亚微米工艺,传统的体硅制造工艺由于日益增长的栅极隧穿漏电、短沟道效应、静态功耗增长等问题,已不适用于28nm之后的产业要求。因此目前主流而被广泛接受的实用制作工艺为鳍型场效应管(FinFET)和全耗尽绝缘体上硅(FDSOI)。虽然两种工艺都通过体区耗尽技术达到提升栅极控制能力和载流子迁移率的目的,但大量的绝缘介质使用造成热耗散问题愈加严重,因此器件自身工作带来的温度变化在当前先进工艺中必须得到建模表征,以防止出现设计者对设计的预估错误导致最终的设计失败。
实际上,工业界对自加热效应已经有了较为一致的认识并运用在了实用模型中,但对自加热效应参数的提取方法却没能有行之有效的方法。目前业界的提取方法主要分为三类,一类为直接脉冲IV测量法,这种方法通过使用短脉冲测试降低器件在测量过程中的温度变化以获得器件本征数据,此类方法受制于脉冲源和测量器件的性能,要获得理想数据往往需要极高的测量成本;第二类为栅极电阻间接法,这种方法通过对栅极电阻进行温度建模,在测量过程中监测栅极电阻的温度,利用模型的反函数获得器件温度,实践中这种方法的误差较大,它通过两次建模和栅极电阻温度等同于沟道的假设;第三种为交流小信号导纳法,这种方法使用低频网分或阻抗分析仪检测低频小型号下的交流阻抗变化反应自加热效应,这种方法需要进行精确的系统校准和一个近似的理论公式获得自加热参数,实践中经常出现噪声过大影响数值提取的问题。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是,提供一种自加热效应参数的提取装置以及提取方法,能够提高自加热效应的建模质量并优化模型参数提取流程。
为了解决上述问题,本发明提供了一种自加热效应参数的提取装置,包括一环形振荡器,所述环形振荡器包括;多个反相器,通过电阻彼此串接,所述反相器背栅或体区引出作为偏置端口;每个反相器的输出端与地之间连接一电容,用以增加时间延时。
为了解决上述问题,本发明提供了一种自加热效应参数的提取方法,包括如下步骤:提供上述的自加热效应参数的提取装置;执行多次不同振荡频率下的测量;对振荡频率最低的环形振荡器的等效电阻数据进行参数提取,作为自加热效应参数中的电阻值参数;对振荡频率最高的环形振荡器的等效电容数据进行参数提取,作为自加热效应参数中的电容值参数;改变所述自加热效应参数的提取装置中环形振荡器中晶体管的沟道宽度,通过对不同沟道宽度的器件进行参数提取,获取自加热效应参数中的热阻与沟道宽度关系参数。
本发明利用环形振荡器进行自加热效应提取,测试误差小,且便于进行数值提取。
附图说明
附图1所示是本发明一具体实施方式所述自加热效应参数的提取装置的电路图。
附图2所示是本发明一具体实施方式所述自加热效应参数的提取方法的实施步骤示意图。
附图3所示是本发明一具体实施方式所述自加热效应参数的提取方法的基本物理参数模型。
具体实施方式
下面结合附图对本发明提供的自加热效应参数的提取装置以及提取方法的具体实施方式做详细说明。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的