[发明专利]一种膜厚测量玻璃板支架及方法有效
申请号: | 202011603018.2 | 申请日: | 2020-12-30 |
公开(公告)号: | CN112747683B | 公开(公告)日: | 2022-12-16 |
发明(设计)人: | 钱超;余洋;黄斌;植启东 | 申请(专利权)人: | 南京深光科技有限公司 |
主分类号: | G01B11/06 | 分类号: | G01B11/06 |
代理公司: | 南京行高知识产权代理有限公司 32404 | 代理人: | 肖念 |
地址: | 210038 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 测量 玻璃板 支架 方法 | ||
本发明属于膜厚测量技术领域,尤其是涉及一种膜厚测量玻璃板支架及方法,包括支架框,支架框的上端设有多组嵌槽,其中一个嵌槽的底部开设有多个螺纹孔,螺纹孔贯穿整个支架框,螺纹孔内螺纹连接有螺栓。优点在于:本发明可保证既能完成对膜厚的实时监控、校正,又不破坏真空腔,解决了反复进出真空腔都或真空腔破空会造成真空腔污染,破坏真空环境,影响工艺稳定等,节省时间,降低成本,提高生产效率。
技术领域
本发明属于膜厚测量技术领域,尤其是涉及一种膜厚测量玻璃板支架及方法。
背景技术
陪镀片需要和掩模版一起进入真空环境进行磁控溅射,因为现有工艺无法对掩模版的膜厚直接测量,所以只能测量一起进入相同环境的陪镀片,而目前的工艺中,测量和校正需要将陪镀片从真空环境取出和未参与工艺流程的相同材料陪镀片以及背面相同黑墨背景板在仪器下检测光的反射数据,从而得出已经完成的厚度。
这样多次操作会重复进入真空腔,一是浪费时间,二是不可避免地会对真空腔造成污染和一定程度地破坏,影响工艺的稳定和产品质量。
为此,我们提出一种膜厚测量玻璃板支架及方法来解决上述问题。
发明内容
本发明的目的是针对上述问题,提供一种可将单一的支架替换为三合一的膜厚测量玻璃板支架及方法。
为达到上述目的,本发明采用了下列技术方案:一种膜厚测量玻璃板支架,包括支架框,所述支架框的上端设有多组嵌槽,其中一个所述嵌槽的底部开设有多个螺纹孔,所述螺纹孔贯穿整个支架框,所述螺纹孔内螺纹连接有螺栓。
在上述的膜厚测量玻璃板支架中,多组所述嵌槽相互平行设置。
在上述的膜厚测量玻璃板支架中,所述嵌槽有三组。
在上述的膜厚测量玻璃板支架中,多个所述嵌槽之间的间距为0.5-1.5cm。
在上述的膜厚测量玻璃板支架中,所述嵌槽的深度为0.4cm-1.0cm。
一种玻璃板支架膜厚测量方法,包括以下步骤:
S1:校准准备,将支架框与设备框架用螺栓进行固定,螺栓拧紧不能晃动,将镀好膜的陪镀片放入至第一个嵌槽内,在顺序第二个嵌槽内放置未镀膜的陪镀片,在第三个嵌槽内放入与前两个陪镀片背面相关颜色的黑墨背景板;
S2:光强测试,打开软件,再点击原始信号,检查光强,转动丝杆进行焦距的调整;
S3:膜厚校准,点击位置一取得样品反射率,点击位置一取得标准反射率,点击位置一取得背景反射率;点击位置一测量后一号通道校准完成,再依次点击其他通道,重复以上动作进行校准;
S4:完成恢复,校准结束,关闭膜厚校正模式,将支架框退出。
在上述的玻璃板支架膜厚测量方法中,所述设备框架上设置至1-3组支架框。
在上述的玻璃板支架膜厚测量方法中,组所述支架框均设置于设备框架的同一侧,另一侧放置金属掩膜版,支架框与金属掩膜版位于同一水平面上。
在上述的玻璃板支架膜厚测量方法中,多组所述支架框之间等距设置。
与现有的技术相比,在对掩模版进行镀膜的时候,随着掩模版一起把基片架传入真空腔内,到膜厚检测的位置作为基准点在把三个底样分别传动到在线膜厚检测仪的光线下面进行取样完成校正,最后把基片架退出真空腔,再把膜厚在线校正架更换回原来的放置陪镀片的架子完成操作,可保证既能完成对膜厚的实时监控、校正,又不破坏真空腔,解决了反复进出真空腔都或真空腔破空会造成真空腔污染,破坏真空环境,影响工艺稳定等,节省时间,降低成本,提高生产效率。
附图说明
图1是本发明提供的一种膜厚测量玻璃板支架的结构示意图;
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南京深光科技有限公司,未经南京深光科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011603018.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。