[发明专利]一种真空镀膜加工装置在审
申请号: | 202011621166.7 | 申请日: | 2020-12-31 |
公开(公告)号: | CN112695278A | 公开(公告)日: | 2021-04-23 |
发明(设计)人: | 吕锡昌;谢建辉;廖建伟 | 申请(专利权)人: | 福建省将乐县长兴电子有限公司 |
主分类号: | C23C14/28 | 分类号: | C23C14/28;C23C14/18 |
代理公司: | 北京阳光天下知识产权代理事务所(普通合伙) 11671 | 代理人: | 赵飞 |
地址: | 353300 福建*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 真空镀膜 加工 装置 | ||
1.一种真空镀膜加工装置,其特征在于,包括底座(1),所述底座(1)的上面设有壳体(3)和冷却系统(7),所述冷却系统(7)设置在所述壳体(3)的左侧,所述底座(1)内设有真空泵(2),所述真空泵(2)的上端和所述壳体(3)的内部贯通,所述壳体(3)的顶部设有升降机构(5),所述升降机构(5)的下端伸入所述壳体(3)内,所述升降机构(5)能够带着石英晶体上下移动,所述壳体(3)的内部设有镀膜装置和防护装置,所述镀膜装置包括激光发射装置和覆膜装置,所述激光发射装置外接激光发射器,所述防护装置设置在所述底座(1)的内腔(11)底部,所述激光发射装置安装在所述底座(1)的右侧壁上,所述覆膜装置位于所述防护装置内,所述升降机构(5)包括可上下移动的连接板(52),所述连接板(52)上安装有可转动的旋转板(54),所述旋转板(54)的下面设有加热板(55),所述加热板(55)的下面通过若干个基板座(56)连接有基板(561),所述基板(561)用于放置石英晶体。
2.根据权利要求1所述的真空镀膜加工装置,其特征在于,所述激光发射装置包括反射镜(42)和聚焦镜(43),所述反射镜(42)和所述聚焦镜(43)均安装在所述壳体(3)的右侧壁上,所述反射镜(42)位于所述聚焦镜(43)的右上方,所述激光发射器发出激光束(4),通过所述反射镜(42)和所述聚焦镜(43)照射在所述覆膜装置上。
3.根据权利要求2所述的真空镀膜加工装置,其特征在于,所述覆膜装置包括坩埚(45),所述坩埚(45)通过坩埚座(44)设置在所述壳体(3)的底部,且所述坩埚(45)位于所述防护装置的安装座(6)内,所述坩埚(45)内存放有金属液(46),所述激光束(4)照射所述金属液(46)能够使得所述金属液(46)蒸发,所述金属液(46)内的金属离子上升,从而覆在所述石英晶体的表面,形成一层膜。
4.根据权利要求3所述的真空镀膜加工装置,其特征在于,所述防护装置还包括保护罩(62),所述保护罩(62)通过若干个螺钉(61)安装在所述安装座(6)的上面,所述保护罩(62)的前面设有门(622),所述门(622)上设有把手(623)。
5.根据权利要求4所述的真空镀膜加工装置,其特征在于,所述冷却系统(7)包括冷却箱(72),所述冷却箱(72)安装在所述壳体(3)的左侧,所述冷却箱(72)的左侧安装有冷凝器(73),所述冷凝器(73)的上端连接有冷凝管(74),所述冷凝管(74)的上端穿过所述冷却箱(72)的左侧壁的上端并伸入所述冷却箱(72)内,且所述冷凝管(74)的下端从所述冷却箱(72)的左侧壁的下端穿出并连接在所述冷凝器(73)的下端。
6.根据权利要求5所述的真空镀膜加工装置,其特征在于,所述冷却箱(72)内设有冷却液(75),所述冷凝管(74)位于所述冷却箱(72)内的部分浸在所述冷却液(75)中,且所述冷凝管(74)位于所述冷却箱(72)内的部分呈S形设置。
7.根据权利要求6所述的真空镀膜加工装置,其特征在于,所述冷却系统(7)还包括气泵(71)和排气管(76),所述气泵(71)安装在所述底座(1)内且位于所述底座(1)的左端,所述气泵(71)上设有第二出气管(711),所述第二出气管(711)伸入所述冷却箱(72)内,所述排气管(76)贯通连接在所述冷却箱(72)的上端,所述排气管(76)的端部设有接头(77),通过所述接头(77)使得所述排气管(76)和所述壳体(3)的冷却槽(31)相贯通,所述冷却槽(31)开设在所述壳体(3)的左侧壁上,所述冷却槽(31)的右侧开设有若干个排气口(32),若干个排气口(32)均和所述壳体(3)的内部贯通。
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