[发明专利]一种真空镀膜加工装置

说明书

本发明公开了一种真空镀膜加工装置，包括底座，所述底座的上面设有壳体和冷却系统，所述底座内设有真空泵，所述壳体的顶部设有升降机构，所述升降机构能够带着石英晶体上下移动，所述壳体的内部设有镀膜装置和防护装置，所述镀膜装置包括激光发射装置和覆膜装置，所述激光发射装置外接激光发射器，所述防护装置设置在所述底座的内腔底部，所述激光发射装置安装在所述底座的右侧壁上，所述覆膜装置位于所述防护装置内，所述升降机构包括可上下移动的连接板，所述连接板上安装有旋转板，所述旋转板的下面设有加热板，所述加热板的下面连接有基板，所述基板用于放置石英晶体，本发明具有加工效率高、覆膜效果好的优点。

技术领域

本发明涉及石英晶体技术领域，具体涉及一种真空镀膜加工装置。

背景技术

近年来电子产品的应用场合越来越广、应用条件越来越苛刻，对所使用的电子零件的要求也越来越高，对能够在低能耗条件下稳定工作的电子零件的需求量越来越大。频率控制元件之一的石英晶体谐振器也同样被要求能够在低能耗条件下频率稳定工作，在工作驱动功率范围内频率变化小。

因此，为满足国内外客户对高端谐振器产品的市场需求，提高公司产品在行业中的竞争力，急需对真空镀膜技术进行研发。

发明内容

有鉴于此，本发明提供一种真空镀膜加工装置，以解决上述技术问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：

一种真空镀膜加工装置，包括底座，所述底座的上面设有壳体和冷却系统，所述冷却系统设置在所述壳体的左侧，所述底座内设有真空泵，所述真空泵的上端和所述壳体的内部贯通，所述壳体的顶部设有升降机构，所述升降机构的下端伸入所述壳体内，所述升降机构能够带着石英晶体上下移动，所述壳体的内部设有镀膜装置和防护装置，所述镀膜装置包括激光发射装置和覆膜装置，所述激光发射装置外接激光发射器，所述防护装置设置在所述底座的内腔底部，所述激光发射装置安装在所述底座的右侧壁上，所述覆膜装置位于所述防护装置内，所述升降机构包括可上下移动的连接板，所述连接板上安装有可转动的旋转板，所述旋转板的下面设有加热板，所述加热板的下面通过若干个基板座连接有基板，所述基板用于放置石英晶体。

进一步地，所述激光发射装置包括反射镜和聚焦镜，所述反射镜和所述聚焦镜均安装在所述壳体的右侧壁上，所述反射镜位于所述聚焦镜的右上方，所述激光发射器发出激光束，通过所述反射镜和所述聚焦镜照射在所述覆膜装置上。

更进一步地，所述覆膜装置包括坩埚，所述坩埚通过坩埚座设置在所述壳体的底部，且所述坩埚位于所述防护装置的安装座内，所述坩埚内存放有金属液，所述激光束照射所述金属液能够使得所述金属液蒸发，所述金属液内的金属离子上升，从而覆在所述石英晶体的表面，形成一层膜。

更进一步地，所述防护装置还包括保护罩，所述保护罩通过若干个螺钉安装在所述安装座的上面，所述保护罩的前面设有门，所述门上设有把手。

更进一步地，所述冷却系统包括冷却箱，所述冷却箱安装在所述壳体的左侧，所述冷却箱的左侧安装有冷凝器，所述冷凝器的上端连接有冷凝管，所述冷凝管的上端穿过所述冷却箱的左侧壁的上端并伸入所述冷却箱内，且所述冷凝管的下端从所述冷却箱的左侧壁的下端穿出并连接在所述冷凝器的下端。

更进一步地，所述冷却箱内设有冷却液，所述冷凝管位于所述冷却箱内的部分浸在所述冷却液中，且所述冷凝管位于所述冷却箱内的部分呈S形设置。

更进一步地，所述冷却系统还包括气泵和排气管，所述气泵安装在所述底座内且位于所述底座的左端，所述气泵上设有第二出气管，所述第二出气管伸入所述冷却箱内，所述排气管贯通连接在所述冷却箱的上端，所述排气管的端部设有接头，通过所述接头使得所述排气管和所述壳体的冷却槽相贯通，所述冷却槽开设在所述壳体的左侧壁上，所述冷却槽的右侧开设有若干个排气口，若干个排气口均和所述壳体的内部贯通。