[发明专利]形成光致抗蚀剂图案的方法

权利要求书

1.一种形成光致抗蚀剂图案的方法，包括：

在形成于衬底上的光致抗蚀剂层上方形成保护层；

使所述保护层和所述光致抗蚀剂层选择性地曝露于光化辐射；以及

使所述光致抗蚀剂层显影以在所述光致抗蚀剂层中形成图案，

其中所述保护层包含没有含氮部分的聚合物和碱性淬灭剂、有机酸、光酸产生剂或热酸产生剂。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述碱性淬灭剂是仲胺或叔胺、光碱产生剂或热碱产生剂。

3.根据权利要求2所述的方法，其中所述光碱产生剂选自由以下项组成的组的一种或多种：二硫代氨基甲酸季铵盐、α氨基酮、含肟-氨基甲酸酯的分子、二苯甲酮肟六亚甲基二脲、四有机基硼酸铵盐和N-(2-硝基苄氧基羰基)环胺及它们的组合。

4.根据权利要求2所述的方法，其中所述热碱产生剂是选自由以下项组成的组的一种或多种：

5.根据权利要求2所述的方法，其中所述热碱产生剂是N-(对硝基苯基)-2,6-二甲基哌啶。

6.根据权利要求1所述的方法，其中所述热酸产生剂是选自由以下项组成的组的一种或多种：

其中0≤n≤10，并且R是氢或取代或未取代C1-C10烷基。

7.根据权利要求6所述的方法，其中所述热酸产生剂是NH₄⁺C₄F₉SO₃^-或NH₄⁺CF₃SO₃^-。

8.根据权利要求1所述的方法，其中基于所述聚合物和所述碱性淬灭剂、有机酸、光酸产生剂或热酸产生剂的重量，所述碱性淬灭剂、有机酸、光酸产生剂或热酸产生剂在所述保护层中的浓度范围从0.1重量％至10重量％。

9.根据权利要求1所述的方法，其中所述没有含氮部分的聚合物选自由以下项组成的组：聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚氟醇、聚酯、聚酰亚胺、聚醚和多元醇。

10.根据权利要求9所述的方法，其中所述聚合物不包含酸不稳性基团。