[发明专利]一种晶圆表面清洗组件

权利要求书

1.一种晶圆表面清洗组件，其特征在于，包括：

支撑杆(1)；

支撑臂(2)，所述支撑臂(2)的一端固定连接所述支撑杆(1)的上端，所述支撑臂(2)的另一端固定连接一清洗喷头(3)；

清洗喷头(3)，位于所述晶圆的上方，所述清洗喷头(3)上设置有第一喷射构件(4)、第二喷射构件(5)和第三喷射构件(6)；

其中，所述第一喷射构件(4)连通输送第一清洗剂的第一输送管道，用于向所述晶圆喷洒第一清洗剂，所述第二喷射构件(5)连通输送第二清洗剂的第二输送管道，用于向所述晶圆喷洒第二清洗剂，所述第三喷射构件(6)连通输送第三清洗剂的第三输送管道，用于向所述晶圆喷洒第三清洗剂；

其中，所述支撑杆(1)的下端连接一驱动机构，用于驱动所述支撑杆(1)做升降运动使所述清洗喷头(3)使用前时达到预定高度，或者驱动所述支撑杆(1)做旋转运动使所述清洗喷头(3)使用时来回摆动对所述晶圆进行清洗；

所述第三喷射构件(6)的喷射口正对所述晶圆表面；

所述第一喷射构件(4)的喷射口与所述晶圆表面倾斜设置，且向所述第三喷射构件(6)的喷射口倾斜；

其中，所述第三喷射构件(6)的喷射范围大于所述第一喷射构件(4)的喷射范围；

所述第二喷射构件(5)的喷射口与所述晶圆表面倾斜设置，且向所述第三喷射构件(6)的喷射口倾斜；

其中，所述第三喷射构件(6)的喷射范围大于所述第二喷射构件(5)的喷射范围；

所述第一喷射构件(4)、所述第二喷射构件(5)和所述第三喷射构件(6)从上往下看围成一个三角形；

所述第一喷射构件(4)喷射氮气，所述第二喷射构件(5)进行SC1大液滴喷射，同时所述第三喷射构件(6)大范围喷射纳米级SC1，在所述晶圆的表面形成具有有效扩散半径的清洗剂扩散圈；

在SC1液滴进入所述晶圆的表面之前，氮气吹送到SC1液滴上，包覆SC1液滴表面，形成纳米级水膜，阻挡SC1液滴分子团聚，提高对晶圆的清洗能力。

2.如权利要求1所述的一种晶圆表面清洗组件，其特征在于，所述第一输送管道、所述第二输送管道和所述第三输送管道均位于所述支撑杆(1)、支撑臂(2)的内部。

3.如权利要求2所述的一种晶圆表面清洗组件，其特征在于，所述清洗喷头在与所述支撑臂(2)的连接处设置一出线构件(31)，所述出线构件(31)上设置三个通孔，所述第一输送管道、所述第二输送管道和所述第三输送管道与三个所述通孔一一对应，所述第一输送管道穿过对应的所述通孔与所述第一喷射构件(4)连通，所述第二输送管道穿过对应的所述通孔与所述第二喷射构件(5)连通，所述第三输送管道穿过对应的所述通孔与所述第三喷射构件(6)连通。

4.如权利要求1所述的一种晶圆表面清洗组件，其特征在于，所述第三喷射构件(6)包括：

注入通道(64)，所述注入通道(64)的俯视图为一圆形，所述注入通道(64)连通所述第三输送管道；

所述注入通道包括第一区域(641)、第二区域(642)、第三区域(643)和第四区域(644)；

所述第一区域(641)为圆形，所述第二区域(642)为包围所述第一区域(641)的环形区域，所述第三区域(643)为包围所述第二区域(642)的环形区域，所述第四区域(644)为包围所述第三区域(643)的环形区域；

其中，所述第二区域(642)和所述第四区域(644)上均匀设置若干用于喷射第三清洗剂的喷射孔(65)，每一个所述喷射孔(65)均与所述注入通道(64)连通。

5.如权利要求4所述的一种晶圆表面清洗组件，其特征在于，每一个所述喷射孔(65)为一针状，所述喷射孔(65)的针头连通所述注入通道(64)，所述喷射孔(65)的针尖面对所述晶圆表面。

6.如权利要求4所述的一种晶圆表面清洗组件，其特征在于，所述第三喷射构件(6)还包括一兆声波振荡片(63)，用于在所述第三清洗剂进行喷射时产生兆声波。

7.如权利要求4所述的一种晶圆表面清洗组件，其特征在于，所述注入通道(64)还连通有一回收管道(62)，用于对第三清洗剂进行回收。