[发明专利]IBC电池的制备方法、IBC电池和太阳能电池组件有效
申请号: | 202011630970.1 | 申请日: | 2020-12-31 |
公开(公告)号: | CN112864275B | 公开(公告)日: | 2022-12-27 |
发明(设计)人: | 尹海鹏;汤坤;陈斌 | 申请(专利权)人: | 晶澳太阳能有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/0224;H01L31/0352 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 杨倩;张效荣 |
地址: | 055550 *** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | ibc 电池 制备 方法 太阳能电池 组件 | ||
本发明公开了IBC电池的制备方法、IBC电池和太阳能电池组件。该制备方法包括:在n型硅基体的背面制备p+掺杂层;在p+掺杂层上形成第一掩膜;采用激光去除部分区域的第一掩膜,形成指交叉排列的包括p+掺杂层和第一掩膜的第一区域以及包括p+掺杂层的第二区域;用第一碱溶液去除第二区域中的p+掺杂层,使相邻两个第一区域之间形成第一凹槽结构,其中,第一凹槽结构的剖面为梯形,第一区域包括的第一掩膜延伸至于梯形的下底;在第一凹槽结构的上底形成n+掺杂层或者隧穿氧化钝化接触层,并通过延伸至梯形的下底的第一掩膜限制n+掺杂层或者隧穿氧化钝化接触层的宽度。该制备方法简化了IBC电池制作工艺。
技术领域
本发明涉及一种IBC电池的制备方法、IBC电池和太阳能电池组件。
背景技术
指交叉背接触(Interdigitated back contact,IBC)太阳能电池(简称:IBC电池),是一种将p+掺杂区域和n+掺杂区域均放置在电池背面(非受光面)的太阳能电池,该IBC电池的受光面无任何金属电极遮挡,从而有效增加了电池的短路电流,使电池的能量转化效率得到提高。
由于IBC电池的电极都位于硅片背面,需要在硅片背面形成交叉排列的两种不同的掺杂区域。目前IBC电池制备过程中,为了实现在硅片背面形成交叉排列的两种不同掺杂区域,需要在掺杂工艺和金属化工艺中引入图形化(patterning)和对准(alignment)的步骤,并通过设置不同的掩膜使得不同的掺杂区域被隔离开,并在不同的掺杂区域之间设置隔离层等。导致现有的IBC电池制备工艺步骤比较复杂,成本较高。
发明内容
有鉴于此,本发明所要解决的技术问题在于,提供一种IBC电池的制备方法、IBC电池和太阳能电池组件,能够有效地简化IBC电池制作工艺,并降低IBC电池成本。
为了解决上述技术问题,本发明提供以下技术方案:
第一方面,本发明提供一种IBC电池的制备方法,包括:
步骤(a)、通过硼扩散方式,在n型硅基体的背面制备p+掺杂层;
步骤(b)、在所述p+掺杂层上形成第一掩膜;
步骤(c)、采用激光去除部分区域的第一掩膜,形成包括p+掺杂层和第一掩膜的第一区域以及包括所述p+掺杂层的第二区域,其中,所述第一区域与所述第二区域指交叉排列;
步骤(d)、用第一碱溶液去除所述第二区域中的p+掺杂层,使相邻两个所述第一区域之间形成第一凹槽结构,其中,所述第一凹槽结构的剖面为梯形,所述第一区域包括的所述第一掩膜延伸至所述梯形的下底;
步骤(e)、在所述第一凹槽结构的上底形成n+掺杂层或者隧穿氧化钝化接触层,并通过延伸至所述梯形的下底的第一掩膜限制所述n+掺杂层或者所述隧穿氧化钝化接触层的宽度。
第二方面,本发明提供一种IBC电池,包括:n型硅基体、位于所述n型硅基体背面的呈指交叉排列的第一区域和第二区域,其中,
所述第一区域设置有p+掺杂层;
所述第二区域包括第一凹槽结构,所述第一凹槽结构的剖面为梯形,其中,所述第一凹槽结构由相邻两个所述p+掺杂层的侧壁与所述n型硅基体背面围成;
所述第一凹槽结构内设置有n+掺杂层或者隧穿氧化钝化接触层,所述第一凹槽结构使所述n+掺杂层或者隧穿氧化钝化接触层与相邻的所述p+掺杂层物理隔离。
第三方面,本发明提供一种太阳能电池组件,包括:背板、盖板以及多个上述IBC电池,其中,
多个所述IBC电池封装于所述背板和所述盖板之间。
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