[发明专利]一种抛光载具的修整方法有效

专利信息
申请号: 202011633942.5 申请日: 2020-12-31
公开(公告)号: CN112757161B 公开(公告)日: 2022-04-19
发明(设计)人: 孙强;柏友荣;黄珊;张俊宝;宋洪伟;陈猛 申请(专利权)人: 上海超硅半导体股份有限公司;重庆超硅半导体有限公司
主分类号: B24B53/017 分类号: B24B53/017
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 胡彬
地址: 201616 上海*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 抛光 修整 方法
【权利要求书】:

1.一种抛光载具的修整方法,其特征在于,所述修整方法包括以下步骤:

S1:根据所述抛光载具的待修整面的现有形貌和修整完成后需要得到的目标形貌选取调整垫片;

S2:将所述调整垫片放置于所述抛光载具的与待修整面相对设置的另一面上;

S3:抛光装置对所述抛光载具的待修整面进行抛光操作,通过磨削待修整面以进行修整;所述调整垫片能够改变待修整面在沿远离其旋转中心的方向上的不同位置处的磨削量;

步骤S1中待修整面的目标形貌通过以下步骤获取:

S100:选取某一抛光载具,所述抛光载具与待抛光件接触的面具有初始形貌,将待抛光件放入所述抛光装置中,对待抛光件进行抛光,待抛光完成后,检测并记录待抛光件的表面平整度X;

S200:步骤S100重复N-1次,获得N个具有不同初始形貌的所述抛光载具对应的待抛光件的表面平整度X1、X2、X3……XN;

S300:选取X1、X2、X3……XN中的最小值Xmin,将其对应的所述抛光载具的初始形貌作为待修整面的目标形貌。

2.根据权利要求1所述的修整方法,其特征在于,所述调整垫片与待修整面同轴心设置。

3.根据权利要求2所述的修整方法,其特征在于,所述调整垫片为实心圆片结构,所述调整垫片使得待修整面的磨削量沿远离旋转中心的方向呈递减趋势。

4.根据权利要求2所述的修整方法,其特征在于,所述调整垫片为圆环结构,所述调整垫片使得待修整面的磨削量沿远离旋转中心的方向呈递增趋势。

5.根据权利要求4所述的修整方法,其特征在于,所述调整垫片的外径与待修整面的外径相同。

6.根据权利要求1所述的修整方法,其特征在于,步骤S3包括以下步骤:

所述抛光载具修整一定的时间后,检测待修整面的当前形貌与目标形貌是否一致;若一致,则修整完成;若不一致,则继续修整,直至待修整面的当前形貌与目标形貌一致。

7.根据权利要求1所述的修整方法,其特征在于,所述修整方法用于所述抛光装置第一次对待抛光件进行抛光操作之前;和/或

所述修整方法用于所述抛光装置对待抛光件进行抛光的过程中。

8.根据权利要求1所述的修整方法,其特征在于,所述抛光载具的待修整面的现有形貌为正盘型、负盘型或平面型;其中,正盘型为待修整面的旋转中心凸出且凸出高度沿着远离旋转中心的方向逐渐降低的形貌;负盘型为待修整面的旋转中心凹陷且凹陷深度沿着远离旋转中心的方向逐渐降低的形貌;平面型为待修整面为平面的形貌。

9.根据权利要求1所述的修整方法,其特征在于,所述抛光载具的待修整面的目标形貌为正盘型、负盘型或者平面型。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海超硅半导体股份有限公司;重庆超硅半导体有限公司,未经上海超硅半导体股份有限公司;重庆超硅半导体有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011633942.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top