[实用新型]一种半导体生产抛光头模具打磨装置有效

专利信息
申请号: 202020004613.3 申请日: 2020-01-02
公开(公告)号: CN212553357U 公开(公告)日: 2021-02-19
发明(设计)人: 刘卫科 申请(专利权)人: 自贡国晶科技有限公司
主分类号: B24B53/00 分类号: B24B53/00;B24B41/02;B24B41/06;B24B55/06
代理公司: 深圳峰诚志合知识产权代理有限公司 44525 代理人: 赵爱婷
地址: 643000 四川省自贡市沿滩区高新*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 半导体 生产 抛光 模具 打磨 装置
【说明书】:

实用新型公开了一种半导体生产抛光头模具打磨装置,涉及到半导体模具加工技术领域。包括底板,所述底板的顶端设置有电动推杆一,所述电动推杆一的顶端设置有支撑板,所述支撑板的另一端设置有电动推杆二,所述电动推杆二的下方设置有夹持外壳,所述夹持外壳的外表面设置有圆形通孔,所述圆形通孔的内部设置有螺纹旋进杆,所述底板的顶端远离电动推杆一的一侧设置有基座,所述基座的顶端设置有电机,所述电机的输出轴的端部设置有打磨头。有益效果:利用打磨头对半导体抛光模具进行打磨,使半导体打磨设备表面更加平整,有利于保证在半导体生产过程中设备能正常的为晶圆片的生产提供良好的运行环境。

技术领域

本实用新型涉及半导体模具加工技术领域,具体来说,涉及一种半导体生产抛光头模具打磨装置。

背景技术

半导体晶圆片生产抛光模具是半导体晶圆片生产过程中的消耗品,其主要组成部分为抛光头,抛光头模具在工作过程中会产生磨损这样会对半导体晶圆片抛光产生凹槽,凹槽太深,影响晶圆片的表面光洁程度,使半导体的合格率下降。

针对相关技术中的问题,目前尚未提出有效的解决方案。

实用新型内容

针对相关技术中的问题,本实用新型提出一种半导体生产抛光头模具打磨装置,以克服现有相关技术所存在的上述技术问题。

本实用新型的技术方案是这样实现的:

一种半导体生产抛光头模具打磨装置,包括底板,所述底板的顶端设置有电动推杆一,所述电动推杆一的顶端设置有支撑板,所述支撑板的另一端设置有电动推杆二,所述电动推杆二的下方设置有夹持外壳,所述夹持外壳的外表面设置有圆形通孔,所述圆形通孔的内部设置有螺纹旋进杆,所述底板的顶端远离电动推杆一的一侧设置有基座,所述基座的顶端设置有电机,所述电机的输出轴的端部设置有打磨头。

进一步,所述电动推杆二的底端设置有螺纹孔,所述夹持外壳的顶端设置有螺纹杆,所述螺纹杆设置在螺纹孔的内部。

进一步,所述底板靠近电动推杆一的一端设置有吸尘箱,所述吸尘箱的内部设置有除尘板,所述吸尘箱的顶端设置有箱盖,所述吸尘箱的侧面设置有吸风管,所述吸风管的另一端设置有吸风罩。

进一步,所述吸尘箱的内部且位于所述除尘板的下方设置有电机二,所述电机二的顶端设置有风扇。

进一步,所述除尘板的形状为锥形,所述吸尘箱的中部设置有凸缘,所述除尘板设置在凸缘上。

本实用新型的有益效果为:将需要打磨的半导体生产抛光模具放置到电动推杆二上,旋动螺纹杆,螺纹杆对设备进行加紧,启动电动推杆,电动推杆对设备进行调整,启动电机,电机带动打磨头对设备进行打磨,同时电动推杆一向上推动支撑板向上运动,然后在启动电机二带动风扇旋转,风扇转动产生负压,将打磨产生的碎屑吸入吸尘箱的内部进行收集,其中,电动推杆二的底端设置有螺纹孔,所述夹持外壳的顶端设置有螺纹杆,所述螺纹杆设置在螺纹孔的内部,从而方便了夹持外壳固定在电动推杆二上,进而方便对需要打磨的抛光头进行打磨,底板靠近电动推杆一的一端设置有吸尘箱,所述吸尘箱的内部设置有除尘板,所述吸尘箱的顶端设置有箱盖,所述吸尘箱的侧面设置有吸风管,所述吸风管的另一端设置有吸风罩,从而利用吸风罩对吸进除尘箱内部的气体进行过滤,将打磨出的碎屑收集到吸尘箱的内部,吸尘箱的内部且位于所述除尘板的下方设置有电机二,所述电机二的顶端设置有风扇,利用电机二带动风扇转动,在吸尘箱内部产生负压,利用负压将碎屑吸入除尘箱的内部,除尘板的形状为锥形,从而增大了除尘板的面积,所述吸尘箱的中部设置有凸缘,所述除尘板设置在凸缘上,利用凸缘将除尘板固定在吸尘箱的中部,防止除尘板在除尘箱内内部活动。

有益效果:利用打磨头对半导体抛光模具进行打磨,使半导体打磨设备表面更加平整,有利于保证在半导体生产过程中设备能正常的为晶圆片的生产提供良好的运行环境。

附图说明

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