[实用新型]检测装置

说明书

本实用新型提供了一种检测装置，所述检测装置包括：光源组件，所述光源组件包括检测光源以及反射装置；所述检测光源用于出射检测光束；所述反射装置包括反射面，所述反射装置具有第一姿态以及第二姿态，当所述反射装置处于所述第一姿态时，所述检测光束经第一入射组件形成第一检测光束入射至检测目标表面，当所述反射装置处于所述第二姿态时，所述检测光束经第二入射组件形成第二检测光束入射至所述检测目标表面；所述反射装置通过使所述反射面沿第一轴移动，或者，使所述反射面绕所述第一轴转动进行姿态切换。应用本实用新型提供的检测装置，可以有效减小设备体积，提高光的利用率。

技术领域

本实用新型涉及检测技术领域，尤其涉及一种检测装置。

背景技术

随着半导体制造工艺的发展，缺陷检测已经成为提升半导体良率中一项不可或缺的重要手段。尤其在半导体集成电路制造中，各工艺过程会因为各种原因而引入微粒或者缺陷，随着对超大规模集成电路高集成度和高性能的需求逐渐增加，半导体技术向着更小的特征尺寸发展，这些微粒或者缺陷对集成电路质量的影响也日趋显著，在线缺陷检测的必要性与重要性与日俱增。

现有光学检测设备一般可以提供正入射检测光束和斜入射检测光束，通常采用两个检测光源分别提供正入射光束和斜入射光束，或者，采用一个检测光源和一个半透半反镜将检测光束分成两束光，分别形成正入射光束和斜入射光束；以上方案均存在一定问题，若采用两个光源会增加检测设备成本和体积，若采用半透半反镜将光束分成两束会降低光利用率，降低光效。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型实施例提供了一种检测装置，可以有效减小设备体积，提高光的利用率。

为实现上述目的，本实用新型实施例提供如下技术方案：

一种检测装置，包括：

光源组件，所述光源组件包括检测光源以及反射装置；

所述检测光源用于出射检测光束；

所述反射装置包括反射面，所述反射装置具有第一姿态以及第二姿态，当所述反射装置处于所述第一姿态时，所述检测光束经第一入射组件形成第一检测光束入射至检测目标表面，当所述反射装置处于所述第二姿态时，所述检测光束经第二入射组件形成第二检测光束入射至所述检测目标表面；

所述反射装置通过使所述反射面沿第一轴移动，或者，使所述反射面绕所述第一轴转动进行姿态切换。

优选的，在上述的检测装置中，所述第一轴的延伸方向垂直或平行于所述检测目标表面。

优选的，在上述的检测装置中，还包括：检测台，所述检测台具有安装检测部件的安装台，所述反射装置远离所述反射面的一端设置在所述安装台上。

优选的，在上述的检测装置中，还包括：所述第一入射组件和所述第二入射组件，所述第一入射组件用于改变第一检测光束的传播方向，所述第二入射组件用于改变第二检测光束的传播方向。

优选的，在上述的检测装置中，所述反射装置包括：

反射镜和驱动机构，所述反射镜包含所述反射面；

所述驱动机构用于驱动所述反射镜沿着所述第一轴移动，或者，用于驱动所述反射镜绕所述第一轴转动。

优选的，在上述的检测装置中，所述反射装置还包括：反射镜安装座，所述反射镜设置在所述反射镜安装座上；所述反射镜安装座与所述驱动机构连接。

优选的，在上述的检测装置中，所述驱动机构为电缸或气缸。