[实用新型]一种CVD碳化硅进气系统有效
申请号: | 202020014529.X | 申请日: | 2020-01-02 |
公开(公告)号: | CN211713197U | 公开(公告)日: | 2020-10-20 |
发明(设计)人: | 白秋云 | 申请(专利权)人: | 成都超纯应用材料有限责任公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/32 |
代理公司: | 成都睿道专利代理事务所(普通合伙) 51217 | 代理人: | 潘育敏 |
地址: | 610200 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 cvd 碳化硅 系统 | ||
1.一种CVD碳化硅进气系统,包括反应腔(1)和混气罐(3),所述混气罐(3)一侧固定连通有三个供气管(2),所述混气罐(3)另一侧固定连通有进气管(4),所述反应腔(1)一侧设置有真空泵(8),所述反应腔(1)上还固定连通有出气管(6),其特征在于,所述反应腔(1)外侧壁上呈周向均匀地固定连接有若干个固定机构(5),若干个所述固定机构(5)上固定连接有通气管道(7),且所述通气管道(7)缠绕在所述反应腔(1)外侧壁上,所述进气管(4)与所述通气管道(7)之间相互连通,所述通气管道(7)内侧呈周向均匀地固定连通有三个进气口(9),且三个所述进气口(9)均分别与所述反应腔(1)相连通。
2.根据权利要求1所述的一种CVD碳化硅进气系统,其特征在于,所述固定机构(5)包括安装块(10),所述安装块(10)固定连接在所述反应腔(1)的外侧壁上,所述安装块(10)一端固定连接有下夹板(11),所述下夹板(11)一端固定连接有第一紧固板(12),所述下夹板(11)上端铰接有上夹板(15),且所述上夹板(15)和所述下夹板(11)之间为相对设置,所述上夹板(15)一端固定连接有第二紧固板(13),且所述第一紧固板(12)和所述第二紧固板(13)之间通过螺栓固定连接在一起,所述通气管道(7)设置在所述下夹板(11)和所述上夹板(15)之间。
3.根据权利要求2所述的一种CVD碳化硅进气系统,其特征在于,所述下夹板(11)和所述上夹板(15)的内表面上均分别粘接有保护层(14)。
4.根据权利要求2所述的一种CVD碳化硅进气系统,其特征在于,所述下夹板(11)和所述上夹板(15)均为弧形结构件。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的